【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种等离子体处理装置，包括处理腔，所述处理腔包括顶壁、与所述顶壁相对的底壁以及形成于所述顶壁与底壁之间的侧壁，所述处理腔的腔壁上设置有进气装置，所述侧壁上形成有排气口，所述处理腔内包括一工艺区域，所述工艺区域和所述排气口之间设置有排气装置，其特征在于，所述排气装置至少包括第一排气装置和第二排气装置；所述第一排气装置用于将等离子体限制在所述工艺区域；所述第二排气装置用于改变工艺区域的气体分布。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄允文，陈金元，刘传生，杨飞云，
申请(专利权)人：理想能源设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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