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一种等离子体处理装置，包括处理腔，所述处理腔包括顶壁、与所述顶壁相对的底壁以及形成于所述顶壁与底壁之间的侧壁，所述处理腔的腔壁上设置有进气装置，所述侧壁上形成有排气口，所述处理腔内包括一工艺区域，所述工艺区域和所述排气口之间设置有排气装置，...
该专利属于理想能源设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想能源设备（上海）有限公司授权不得商用。

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