高纯镓卧式电解除杂槽制造技术

技术编号:8695156 阅读:243 留言:0更新日期:2013-05-13 03:11
一种高纯镓卧式电解除杂槽,包括电解槽体,所述电解槽体外溢流口处设有溢流槽,所述溢流槽端口处设有恒温槽,所述恒温槽端口处设有循环泵,所述循环泵与电解槽体间设有注入口。本实用新型专利技术通过卧式电解槽的结构,将液态镓铺沉在槽底部进行电化学反应,通过电解液的循环加强了电解的效果,减少了浓度极化;本实用新型专利技术将阴阳极比例缩小到1∶15,使得在阳极投入的液态原料镓的量大为提高,金属溶解速率更快,阴极区域面积减小,阴极电流密度提高,利于铁、锗等杂质连同少部分的镓在阴极区较快析出,相当于杂质铁、锗等富集在了少量的阴极镓中,除杂的效率非常高,杂质富集率增大。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种电解槽,尤其是一种高纯镓卧式电解除杂槽
技术介绍
高纯镓生产一般要采用电解的方法。使得一些电位与镓不同的金属杂质用电化学的方法加以区分,一般来讲,电解槽分为大小大致均等的阴阳两区,电解时原料镓在阳极区,纯度较高的镓产出在阴极区,这样源源不断的转移,然后收集在阴极区的镓,得到高纯镓。在高纯镓的生产中,有的时候会存在一些特殊的金属杂质,这类金属与镓的电位相近,或者会先于镓在阴极析出,比如铁、锗等元素。这些杂质不能很好的通过上述的电解槽除去,会在电解的过程中一起随镓转移到阴极去,造成高纯镓的纯度下降。目前为了除去此类杂质,必须要酸洗、结晶等方式的生产来弥补。流程较为复杂。
技术实现思路
为解决高纯镓电解除杂中的金属杂质干扰高纯镓纯度下降、除去金属杂质干扰流程复杂的问题,本技术提供一种浓度极化少、电解除杂效率高的高纯镓卧式电解除杂槽。本技术所要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的:一种高纯镓卧式电解除杂槽,包括电解槽体,所述电解槽体外溢流口处设有溢流槽,所述溢流槽端口处设有恒温槽,所述恒温槽端口处设有循环泵,所述循环泵与电解槽体间设有注入口。所述电解槽体底部内壁一侧设有阳极板和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高纯镓卧式电解除杂槽,包括电解槽体(1),其特征是:所述电解槽体(1)外溢流口(5)处设有溢流槽(6),所述溢流槽(6)端口处设有恒温槽(7),所述恒温槽(7)端口处设有循环泵(8),所述循环泵(8)与电解槽体(1)间设有注入口(9)。

【技术特征摘要】
1.一种高纯镓卧式电解除杂槽,包括电解槽体(I),其特征是:所述电解槽体(I)外溢流口(5)处设有溢流槽(6),所述溢流槽(6)端口处设有恒温槽(7),所述恒温槽(7)端口处设有循环泵(8),所述循环泵(8)与电解槽体(I)间设有注入口(9)。2.根据权利要求1所述的高纯镓卧式电解除杂槽,其特征是:所述电解槽体(I)底部内壁一侧设有阳极板(3)和阴极板(4),所述阴极板(4)周围用塑料板围成阴极区(2),剩下为阳极区,所述与阳极板⑶和阴极板⑷相对一侧的电解槽体⑴内...

【专利技术属性】
技术研发人员:康云飞乔文钟晓露
申请(专利权)人:南京隆润半导体材料有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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