正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、液晶显示装置及有机电致发光显示装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种正型感光性树脂组成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、液晶显示装置及有机电致发光(Electroluminescence,EL)显示装置。更详细而言，本专利技术涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机EL显示装置、集成电路元件、固体摄像元件等电子零件的平坦化膜、保护膜或层间绝缘膜的正型感光性树脂组成物、及使用其的硬化膜的形成方法。
技术介绍
在薄膜晶体管(以下,记作“TFT(Thin Film Transistor)”)型液晶显示元件或磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子零件中，通常为了使配置成层状的配线之间绝缘而设置有层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，优选用以获得所需的图案形状的步骤数少且具有充分的平坦性的材料，因此广泛使用感光性树脂组成物。所述电子零件之中，例如TFT型液晶显示元件经过在所述层间绝缘膜上形成透明电极膜(氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)),进而在透明电极膜上形成包含钥(Mo)或钛(Ti)等金属的配线，然后形成液晶配向膜的步骤来制造，因此层间绝缘膜在透明电极膜的形成步骤中暴露在高温条件下，或者暴露在用于形成...
【技术保护点】
一种正型感光性树脂组成物，其特征在于包括：成分A：含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；成分C：光酸产生剂；以及成分D：溶剂；进而包括成分X：1分子内具有2个以上由式(X1)所表示的水解性硅烷基和/或硅烷醇基的硅化合物；式中，RX1～RX3的至少1个表示选自由烷氧基、巯基、卤素原子、酰胺基、乙酰氧基、氨基、烯丙氧基、及异丙烯氧基所组成的组群中...
【技术特征摘要】
2011.11.02 JP 2011-240868;2012.03.12 JP 2012-05401.一种正型感光性树脂组成物，其特征在于包括: 成分A:含有满足下述(I)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分， (1)具有(al)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物， (2)具有(al)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物； 成分C:光酸产生剂；以及 成分D:溶剂；进而包括 成分X:1分子内具有2个以上由式(Xl)所表示的水解性硅烷基和/或硅烷醇基的硅化合物；2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述构成单元(Xl)之中，Rxi Rx3中的至少2个为烷氧基。3.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:相对于树脂组成物的除溶剂以外的成分的合计，所述成分X的含量为0.lwt%以上。4.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述构成单元(al)为具有羧基由缩醛或缩酮保护的残基的构成单元。5.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述构成单元(al)为由式(al-Ι)所表示的构成单元，6.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述构成单元(Xl)的Rxi Rx3中的至少2个为甲氧基或乙氧基。7.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:所述构成单元(a2)为具有选自环氧基、氧杂环丁基中的至少I种的构成单元。8.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:成分A的含量Wa与成分B的含量Wb的重量比率为WA/WB = 98/2 20/80。9.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于:成分C...
【专利技术属性】
技术研发人员：米泽裕之，川岛敬史，山﨑健太，疋田政宪，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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