一种纳米压印模板及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种纳米压印模板的制备方法，用于制作具有表面高增透性能的微结构，以用于光学器件，该方法包括：制备衬底并在衬底表面镀膜的步骤；对镀膜的衬底进行阳极氧化并进行扩孔处理以形成多孔氧化铝表面的步骤；和对经氧化扩孔处理后的器件进行干法或湿法刻蚀，获得具有粗糙起伏表面的纳米压印模板的步骤；衬底镀膜步骤中，先在衬底表面镀一层钛膜，然后在钛膜上镀铝膜，以增强铝膜的结合强度，防止铝膜上的纳米空洞脱落。本发明专利技术还公开了利用该方法制备的纳米压印模板以及具有利用该模板制备的微结构的光学器件。本发明专利技术可获得具有圆锥状的纳米孔洞形貌，其表面在微米级范围上具有百纳米级的起伏，从而制备出的微结构具有很好的增透效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米压印
，具体涉及一种纳米压印模板及其制备方法和应用，用于制备具有高表面增透性能的微结构，以用于光学器件的制造。
技术介绍
以光电子器件为基础的光电子产业是21世纪最具竞争力和发展前景的新兴产业，然而，组成器件本身的材料与周围介质(如空气)折射率的不匹配，将不可避免的出现如下两个问题，1:对于需要将光从器件内部导出的器件(如LED)，窗口层材料折射率大于空气的折射率，界面处全反射现象将导致大部分的光线无法从窗口层逃逸出去，因而实际电光效率较低，此外，反射回来的光线被内部材料吸收，导致器件温升、光强度降低，寿命下降、峰值波长漂移、色温变差等一系列问题；2:对于需要将光导入器件内部的器件(如太阳能电池)，窗口层的漫反射和镜面反射等因素也将阻碍器件光电效率的提升。因而器件的表面增透技术显得尤为重要。目前国内外普遍采用表面镀膜的方式以获得较高的增透效果，然而，由于膜层材料与窗口层材料存在本质的不同，彼此之间将存在着接触电阻、黏着性、热膨胀不匹配等问题，无法解决所镀膜层与器件材料的匹配问题，此外，只有当所镀膜层材料的折射率为其上下介质折射率乘积的均方根值时，增透效果才会本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米压印模板的制备方法，用于制作具有高增透性表面的微结构，以用于制造光学器件，该方法具体包括：制备衬底并在所述衬底表面镀膜的步骤；对所述镀膜的衬底进行阳极氧化并进行扩孔处理以形成多孔氧化铝表面的步骤；和对上述经氧化扩孔处理后的器件进行干法或湿法刻蚀，获得具有粗糙起伏表面的纳米压印模板的步骤；其特征在于，所述衬底镀膜步骤中，先在衬底表面镀一层钛膜，然后在所述钛膜上镀铝膜。

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印模板的制备方法，用于制作具有高增透性表面的微结构，以用于制造光学器件，该方法具体包括: 制备衬底并在所述衬底表面镀膜的步骤； 对所述镀膜的衬底进行阳极氧化并进行扩孔处理以形成多孔氧化铝表面的步骤；和对上述经氧化扩孔处理后的器件进行干法或湿法刻蚀，获得具有粗糙起伏表面的纳米压印模板的步骤；其特征在于， 所述衬底镀膜步骤中，先在衬底表面镀一层钛膜，然后在所述钛膜上镀铝膜。2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述钛膜上所镀的铝膜的厚度不少于Iμ m。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其中，所述镀铝采用磁控溅射、热蒸发或电子束蒸发方式，镀铝温度低于50°C。4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其中，所述阳极氧化形成多纳米孔氧化铝表面的过程中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙堂友，徐智谋，张铮，赵文宁，武兴会，刘思思，马智超，张学明，王双保，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：