纳米压印装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种纳米压印装置，包括顶板、气缸、腔体、加热盘和底座，所述气缸的缸体与顶板连接，气缸的活塞杆与腔体连接，所述腔体与底座活动密封形成密闭空间，所述加热盘置于该密闭空间内且通过调平机构固定于底座上，所述腔体上设有充气孔。本实用新型专利技术利用压力气体对压印模板施加压力，由于气体均布的特性，因此压印模板的压入平衡、均匀、与表面垂直，并且还设置了调平机构，通过调平机构的调整，保证了压印模板和压印基板的平整性；本实用新型专利技术通过上述两项措施克服了现有技术中因压入的不平衡、非均匀、与表面不垂直，或者压印模板、压印基板倾斜等原因造成的产品缺陷，保证了纳米结构的精确复制，保证了压印产品质量稳定。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于微纳米器件制作
，具体涉及一种纳米压印装置。
技术介绍
纳米压印技术是一种廉价高分辨率的纳米图形转移技术，通过按压具有纳米凹凸结构的印章(纳米压印模板)到有很薄的聚合物的衬底(纳米压印基板)上实现图形转移；对装置进行加热或紫外照射，当印章去除后，衬底上留下原始凹凸纳米结构图形的压印。其中纳米压印模板压入的平衡、均匀、与表面垂直是纳米压印工艺的关键，任何压入的微小不平衡、非均匀、与表面不垂直都将使图形转移发生畸变。现有的纳米压印装置在压印过程中，因为施加的压力不平衡、不均匀、与表面不垂直，或者压印模板、压印基板倾斜等原因，容易使图形转移发生畸变，造成产品缺陷。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种纳米压印装置，该装置使压印模板的压入平衡、均匀、与表面垂直，并且能调整压印模板、压印基板的平整性，保证纳米结构的精确复制。本技术的纳米压印装置，包括顶板、气缸、腔体、加热盘和底座，所述气缸的缸体与顶板连接，气缸的活塞杆与腔体连接，所述腔体与底座活动密封形成密闭空间，所述加热盘置于该密闭空间内且通过调平机构固定于底座上，所述腔体上设有充气孔。进一步，所述密闭空间内还设置有膜，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米压印装置，其特征在于：包括顶板（1）、气缸（2）、腔体（3）、加热盘（4）和底座（5），所述气缸（2）的缸体与顶板（1）连接，气缸（2）的活塞杆与腔体（3）连接，所述腔体（3）与底座（5）活动密封形成密闭空间，所述加热盘（4）置于该密闭空间内且通过调平机构（6）固定于底座（5）上，所述腔体（3）上设有充气孔（7）。

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印装置，其特征在于:包括顶板(I)、气缸(2)、腔体(3)、加热盘(4)和底座(5)，所述气缸(2)的缸体与顶板(I)连接，气缸(2)的活塞杆与腔体(3)连接，所述腔体(3)与底座(5)活动密封形成密闭空间，所述加热盘(4)置于该密闭空间内且通过调平机构(6)固定于底座(5)上，所述腔体(3)上设有充气孔(7)。2.根据权利要求1所述的纳米压印装置，其特征在于:所述密闭空间内还设置有膜(8)，所述膜(8)的两端固定于腔体(3)与底座(5)的密封接触面处，所述膜(8)将密闭空间分隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：史晓华，冀然，薛愉峰，
申请(专利权)人：苏州光舵微纳科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：