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一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂及其制备方法与涂覆工艺技术

技术编号:8677488 阅读:194 留言:0更新日期:2013-05-08 21:19
本发明专利技术属于有机薄膜材料表面改性领域,提供了一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂及其制备方法与涂覆工艺。该涂覆剂是由丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体(如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或丙烯酸甲酯),通过自由基共聚合获得的,其中,丙烯酸聚硅氧烷酯是由α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷与丙烯酰氯,在一定的条件下反应生成的。该聚酯薄膜表面涂覆剂涂覆于聚酯薄膜表面,对薄膜改性,改性后的聚酯薄膜的透光率有较好的提高,聚酯薄膜表面电阻得到增大。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于有机薄膜材料表面改性领域,特别涉及一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂及其制备方法与涂覆工艺
技术介绍
光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性。光学薄膜的应用始于20世纪30年代,已发展成一门独立的技术,被广泛应用于工业、农业、建筑、交通运输、医学、军事、天文、红外物理学、激光技术等领域,在人们的日常工作和生活中起着越来越重要的作用。光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜、扩散膜、增亮膜等。在光学系统中,光的反射不仅导致光能的损失,降低成像质量,而且在某些情况下甚至会造成安全隐患。为了减少光学器件表面光的反射,通常在其表面沉积单层或多层透明介质薄膜,称为增透膜或减反射膜。增透膜是光学薄膜中应用最广、产量最大的膜系之一。其主要的应用领域从硅太阳能电池上的应用到显示器组件上的普及,增透膜的发展和相应的实用研究已成为一项极有意义的工作。在现有的增透技术中,光学介质通常为玻璃,以氟化镁、氧化钛、硫化铅、硒化铅等对玻璃进行光学改性,并在空气中使用,有关聚酯薄膜光学改性的文献报道还比较少。专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于:所述的表面涂覆剂由丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体共聚而成,其中,丙烯酸聚硅氧烷酯的结构式为n值为150?2000;其他的丙烯酸酯类单体选自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或丙烯酸甲酯。FDA00002765119900011.jpg

【技术特征摘要】
1.种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于:所述的表面涂覆剂由丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体共聚而成,其中,丙烯酸聚硅氧烷酯的结构式为2.权利要求1所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于:所述的丙烯酸聚硅氧烷酯是通过α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷与丙烯酰氯反应得到的,其结构式为3.权利要求2所述w.」&孕用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于,所述的丙烯酸聚硅氧烷酯的制备方法为:向聚合度为150-2000的α,ω - 二羟基聚二甲基硅氧烷中加入甲苯溶剂,配制成浓度为0.26g/ml的溶液,按照α,ω - 二羟基聚二甲基硅氧烷,丙烯酰氯与三乙胺的物质的量之比为1:2:2,将α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷/甲苯溶液、三乙胺、丙烯酰氯加入到圆底烧瓶中,在氮气气氛、冰盐浴的条件下,磁力搅拌反应f3h,再在常温条件下,磁力搅拌反应Ih,磁力搅拌转速均为45(T2650r/min ;反应结束后,将铵盐过滤除去,再用旋转蒸发仪将溶液中的甲苯除去;最后将产物放入真空烘箱中室温抽真空干燥,得到丙烯酸聚硅氧烷酯。4.权利要求1至3任一项所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的制备方法,其特征在于:所述的制备方法为, (1)将丙烯酸聚硅氧烷酯、其他的丙烯酸酯类单体、乙酸乙酯、2-丁酮以及引发剂偶氮二异丁腈加入到三口烧瓶中, 其中,丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体的质量比为1:扩9:1,引发剂偶氮二异丁腈的添加量为反应体系中,丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体的总质量的0.1% 1% ; (2)将三口烧瓶抽真空通氮气,将烧瓶中的空气全部...

【专利技术属性】
技术研发人员:张洪文袁珣姜彦丁永红俞强刘守忠刘文虎蒙钊
申请(专利权)人:常州大学江苏裕兴薄膜科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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