一种脱除光气的的方法技术

本发明专利技术公开了一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法，包括塔内蒸汽汽提脱除，其中在塔底加入光气化过程中产生的HCl尾气和/或CO尾气进行气提。本发明专利技术使用氯化氢或一氧化碳加入塔底进行气提作为辅助手段，减少塔釜蒸汽的加入量。可以在较低的温度下脱除光气，可以选择使用或不使用塔底/中间再沸器，塔底温度、汽提气体量等控制参数在较宽的范围内操作均可达到相当或好于传统设计的光气脱除效果，同时减少了产品损失，降低了能耗，避免了换热器结垢，提高了系统安全性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于化工领域，特别涉及一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法。
技术介绍
甲苯二异氰酸酯(TDI)主要由胺光气化法生产制造。TDI的胺光气化法采用液相法，即将原料溶于溶剂中，反应在溶液中进行。反应产物为TDI、氯化氢及其他副产物。未反应的光气需要从反应混合物中分离脱除。光气化反应后分离光气的方法传统是精馏。一般的光气脱除系统设计为塔内二次蒸汽汽提脱除，塔底温度高，耗能大，控制参数要求严格，换热器易结垢，存在腐蚀泄漏风险，同时由于在高温区停留时间长造成产品损失。
技术实现思路
因此，本专利技术要解决的技术问题就是针对目前TDI的胺光气化生产中脱除光气时塔底温度高，耗能大，控制参数要求严格，换热器易结垢，产品在高温区停留时间长造成损失的缺陷或不足，提供一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法，该方法塔底温度较低，耗能小控制参数要求宽松，换热器不易结垢，产品在高温区停留时间不长损失小。本专利技术的技术方案如下一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法，包括塔内蒸汽汽提脱除，其中在塔底加入光气化过程中产生的HCl尾气和/或CO尾气进行气提。 优选的，氯化氢和/或一氧化碳加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法，包括塔内蒸汽汽提脱除，其特征在于，在塔底加入光气化过程中产生的HCl尾气和/或CO尾气进行气提。

【技术特征摘要】
1.一种从TDI的胺光气化反应物中脱除光气的方法，包括塔内蒸汽汽提脱除，其特征在于，在塔底加入光气化过程中产生的HCl尾气和/或CO尾气进行气提。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，氯化氢和/或一氧化碳加入的位置是在塔釜。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，氯化氢和/或一氧化碳加入量为50-1000kg/h。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，氯化氢和/或一氧化碳的进料温度为60-180°C，压力为 2-10bar。5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：李大鹏，于正一，万锦明，马明飞，
申请(专利权)人：上海巴斯夫聚氨酯有限公司，巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：