【技术实现步骤摘要】
本专利技术是，涉及到衍射光学元件方孔型光子筛的设计和制作方法。
技术介绍
光子筛由德国科学家L Kipp等于2001年在Nature上首次提出，其采用微纳透光小孔代替波带片中的透光环带，设计更为灵活。和传统的波带片相比，光子筛可以用直径大于对应波带片环带宽度的小孔来代替，放宽了现有最小加工尺寸的限制，在相同最小加工尺寸的情况下，光子筛能够实现更高的分辨力；并且光子筛上随机分布的小孔，能有效的抑制旁瓣效应和高阶衍射，改善成像质量。由于光子筛显著的特点，在轻型天文望远镜、纳米光刻技术和激光雷达成像技术中应用前景巨大。虽然光子筛有着广阔的应用前景，但是加工工艺要求高。目前大多采用直写方式制作光子筛，存在效率低下的缺陷，难以实现大口径光子筛的制作。
技术实现思路
为克服上述技术的不足，本专利技术的目的是提供一种减小版图数据量，提高制作效率，更适用于大孔径光子筛的制作的应用步进投影数字光刻机制作方孔型光子筛的方法。为达成所述目的，本专利技术提供，其制作方孔型光子筛的步骤如下步骤S1:根据需求的波长、焦距和口径，确定方孔型光子筛的环带数、方孔数量、中心位置和边长参数，其中方孔型光子筛的方孔排列方向相同； 步骤S2 :根据步骤SI中所得参数绘制版图；步骤S3 :对版图大小进行评价，如果版图尺寸小于或者等于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则直接将版图输入数字微镜DMD等待曝光，如果版图尺寸大于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则先用图形分割软件将版图按单场曝光面积进行分割，得到分割的版图；步骤S4:在透明基底上镀金属层，然后在金属层上涂覆光刻胶，得到含有金属层和光刻胶的基底；...
【技术保护点】
一种应用步进投影数字光刻机制作方孔型光子筛的方法，其特征在于，制作方孔型光子筛的步骤如下：步骤S1：根据需求的波长、焦距和口径，确定方孔型光子筛的环带数、方孔数量、中心位置和边长参数，其中方孔型光子筛的方孔排列方向相同；步骤S2：根据步骤S1中所得参数绘制版图；步骤S3：对版图大小进行评价，如果版图尺寸小于或者等于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则直接将版图输入数字微镜DMD等待曝光，如果版图尺寸大于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则先用图形分割软件将版图按单场曝光面积进行分割，得到分割的版图；步骤S4：在透明基底上镀金属层，然后在金属层上涂覆光刻胶，得到含有金属层和光刻胶的基底；步骤S5：通过步进投影数字光刻机的控制软件导入分割后的版图，并设置工艺参数，对含有金属层和光刻胶的基底进行逐场曝光；步骤S6：将逐场曝光后的基底放入显影液中进行显影定影，然后腐蚀掉金属层，最后得到方孔型光子筛。
【技术特征摘要】
1.ー种应用步进投影数字光刻机制作方孔型光子筛的方法，其特征在于，制作方孔型光子筛的步骤如下 步骤S1:根据需求的波长、焦距和口径，确定方孔型光子筛的环带数、方孔数量、中心位置和边长參数，其中方孔型光子筛的方孔排列方向相同； 步骤S2 :根据步骤SI中所得參数绘制版图； 步骤S3 :对版图大小进行评价，如果版图尺寸小于或者等于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则直接将版图输入数字微镜DMD等待曝光，如果版图尺寸大于步进数字投影光刻机单场曝光面积，则先用图形分割软件将版图按单场曝光面积进行分割，得到分割的版图； 步骤S4 :在透明基底上镀金属层，然后在金属层上涂覆光刻胶，得到含有金属层和光刻胶的基底； 步骤S5 :通过步进投影数字光刻机的控制软件导入分割后的版图，并设置エ艺參数，对含有金属层和光刻胶的基底进行逐场曝光； 步骤S6 :将逐场曝光后的基底放入显影液中进行显影定影，然后腐蚀掉金属层，最后得到方孔型光子筛。2.如权利要求1中所述的应用步进投影数字光刻机制作方孔型光子筛的方法，其特征在于所述的方孔型光子筛參数根据以下方法确定，...
【专利技术属性】
技术研发人员：何渝，陈铭勇，赵立新，朱江平，胡松，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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