用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺制造技术

本发明专利技术公开的用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺，步骤包括：先用去离子水清洗表面具有固定LED芯片和键合线区域的陶瓷基板，烘干后再进行射频清洗；然后在陶瓷基板覆盖掩模板，利用掩模板遮盖住固定LED芯片和键合线区域，在其上涂布硅胶、扩散粉、抗沉淀粉和荧光粉的均匀混合物；揭去掩模板，加热固化，即得到涂布了反光层的陶瓷基板，可用于制备LED面光源。陶瓷基板的表面经本发明专利技术处理后，可有效增加陶瓷基板的反射率，减少向下透过基板损失的光通量，提高LED面光源的光效，并更好地保护陶瓷基板表面性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺，属于LED封装

技术介绍
LED (Light Emitting Diode)作为一种新型光源产品，具有寿命长、光效高、稳定性高、安全性好、无汞、无辐射、低功耗等优点，正在各个领域中逐步取代传统光源。使用陶瓷基板制作LED面光源具有散热好、无眩光、发光均匀、耐高压等优点，是封装技术发展的主导方向之一。·目前用于LED面光源的陶瓷基板大多采用氧化铝或氧化铝/氮化铝复合陶瓷，基板上具有固定LED芯片和键合线区域，基板本身存在一定的光线透过率，在LED通电点亮时会有较多的光线透过基板后损失，因此采用陶瓷基板制备的LED面光源，在光效指标上低于常见的直插式和贴片式封装产品。目前产业界为提高陶瓷基板表面的反射率，常采用陶瓷基板表面镀银的工艺，但是在长期工作的使用过程中，Ag层会被硫化，黑色的硫化银会吸收LED发出的光，降低光效维持能力。
技术实现思路
本专利技术的目的在于改进现有的技术不足，提供一种用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺，以增加基板反射率、提高光效和改善光衰减性能。本专利技术的用于LED面光源的陶瓷基板的表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺，包括以下步骤：(1)用去离子水清洗表面具有固定LED芯片和键合线区域的陶瓷基板，然后在80~120℃温度下烘干；(2)?在等离子清洗机中对步骤(1)得到的陶瓷基板进行射频处理，射频功率为150~250W，Ar气流量为20~35?SCCM，处理时间1~3min；(3)?将硅胶、扩散粉、抗沉淀粉和荧光粉以1：2~5：0.01~0.08：0.02~0.15的重量比混合，在真空脱泡搅胶机中搅拌5~10min；(4)?在经步骤(2)处理的陶瓷基板上覆盖掩模板，利用掩模板遮盖住固定LED芯片和键合线区域，将步骤(3)得到的混合物涂布在有掩模板的陶瓷基板上；(5...

【技术特征摘要】
1.一种用于LED面光源的陶瓷基板的表面处理工艺，包括以下步骤 (1)用去离子水清洗表面具有固定LED芯片和键合线区域的陶瓷基板，然后在8(Tl2(TC温度下烘干； (2)在等离子清洗机中对步骤(I)得到的陶瓷基板进行射频处理，射频功率为150 250W，Ar气流量为20 35 SCCM，处理时间I 3min ； (3)将硅胶、扩散粉、抗沉淀粉和荧光粉以1:2飞0. 0Γ0. 08 0. 02、. 15的重量比混合，在真空脱泡搅胶机中搅拌5 10min ； (4)在经步骤(2)处理的陶瓷基板上覆盖掩模板，利用掩模板遮盖住固定LED芯片和键合线区域，将步骤(3)得到的混合物涂布在有掩模板的陶瓷基板上； (5)揭去掩模板，将陶瓷基板置于80 150°C的烘箱中烘烤2飞h，得到涂布了反光层的用于LED面光源的陶瓷基板。2.根据权利要求1所述的用于LED面光源...

【专利技术属性】
技术研发人员：严钱军，高基伟，杨敬葵，徐小秋，李红兰，
申请(专利权)人：杭州杭科光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：