结构的光学计量的材料光学特性的确定制造技术

描述了确定结构的光学计量的材料光学特性的方法。一种方法包括基于两个或更多个方位角和基于一个或多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合。然后基于衍射级的集合提供模拟的光谱。另一种方法包括基于两个或更多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合。然后基于衍射级的集合提供模拟的光谱。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施方式属于光学计量领域，更特别地，涉及结构的光学计量的材料光学特性的确定。
技术介绍
在过去的几年，严格耦合波方法(RCWA)和类似算法已广泛用于对衍射结构的研究和设计。在RCWA方法中，周期性结构的剖面(profile)由给定数量的足够薄的平面光栅(grating)板来近似。具体来说，RCWA包含三个主要步骤，S卩，光栅内的场的傅里叶展开、表征衍射信号的恒定系数矩阵的本征值和本征向量的计算以及根据边界匹配条件导出的线性系统的求解。RCWA将问题分为三个不同的空间区域1)支持入射面波场的周围区，以及所有反射的衍射级(order)的总计，2)光栅结构以及下面的非图案(pattern)层，其中波场 被视为与每个衍射级相关联的模式的叠加，以及3)包含被传送的波场的基底。RCffA解的精确性部分地依赖于在波场的空间谐波展开中保留的项数，一般满足能量守恒。保留的项数是在计算过程中考虑的衍射级数的函数。针对给定的假定剖面的模拟的衍射信号的有效生成包括为衍射信号的横向磁(TM)分量和/或横向电(TE)分量,在每个波长处选择衍射级的最优集。数学上，选择的衍射级数越多，模拟的精确度越高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.05.06 US 12/775,3921.一种用于确定一结构的光学计量的材料光学特性的方法，该方法包括 基于两个或更多个方位角和基于一个或多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合；以及 基于所述衍射级的集合提供模拟的光谱。2.根据权利要求1所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括将隔离结构与密栅结构结合使用。3.根据权利要求1所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括使用二维光栅结构。4.根据权利要求1所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括使用三维光栅结构。5.根据权利要求1所述的方法，其中，模拟所述衍射级的集合基于两个或更多个入射角。6.根据权利要求1所述的方法，该方法还包括 将所述模拟的光谱与样本光谱进行比较。7.根据权利要求6所述的方法，其中，从包括多个材料层的结构生成所述样本光谱，在提供所述样本光谱的对所述结构的测量期间，所述材料层中的至少一个材料层阻挡所述材料层中的至少一个其他的材料层。8.根据权利要求6所述的方法，其中，从包括多个材料层的结构生成所述样本光谱，且其中用于提供所述样本光谱的所述结构的测量包括在两个不同的波长处测量所述结构。9.一种用于确定一结构的光学计量的材料光学特性的方法，该方法包括 基于两个或更多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合；以及 基于所述衍射级的集合提供模拟的光谱。10.根据权利要求9所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括将隔离结构与密栅结构结合使用。11.根据权利要求9所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括使用二维光栅结构。12.根据权利要求9所述的方法，其中，模拟所述光栅结构的衍射级的集合包括使用三维光栅结构。13.根据权利要求9所述的方法，其中，模拟所述衍射级的集合还基于两个或更多个方位角。14.根据权利要求9所述的方法，该方法还包括 将所述模拟的光谱与样本光谱进行比较。15.根据权利要求14所述的方法，其中，从包括多个材料层的结构生成所述样本光谱，在提供所述样本光谱的对所述结构的测量期间，所述材料层中的至少一个材料层阻挡所述材料层中的至少一个其他的材料层。16.根据权利要求14所述的方法，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·M·马德森，杨卫东，
申请(专利权)人：克拉坦科股份有限公司，东京毅力科创株式会社，
类型：
国别省市：