一种传感器晶片可配置成在蚀刻过程期间原位测量参数。该传感器晶片可包括衬底、覆盖物以及位于衬底和覆盖物之间的一个或多个组件。抗蚀涂层被形成在覆盖物和/或衬底的一个或多个表面上。涂层被配置成抵抗因蚀刻过程，该蚀刻过程蚀刻覆盖物和/或衬底的时...

本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦...

本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦...

本发明涉及基于区域的虚拟傅里叶滤波器，包括：搜索图像数据以标识半导体晶片上的一个或多个图案化区域；生成一个或多个虚拟傅里叶滤波器(VFF)工作区；从VFF工作区采集初始图像数据集；利用初始图像数据集来将VFF训练块限定在VFF工作区的所...

提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑...

提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑...

一种工艺条件测量设备(PCMD)可包括第一和第二衬底组件。一个或多个温度传感器被嵌入到每个衬底组件中。第一和第二衬底组件被夹设在一起以使第二衬底组件中的每个温度传感器串联对准于第一衬底组件中的相应温度传感器。替代地，第一和第二温度传感器...

本发明包括：搜索图像数据以标识半导体晶片上的一个或多个图案化区域；生成一个或多个虚拟傅里叶滤波器（VFF）工作区；从VFF工作区采集初始图像数据集；利用初始图像数据集来将VFF训练块限定在VFF工作区的所标识图案化区域内，其中每一VFF...

一种传感器晶片可配置成在蚀刻过程期间原位测量参数。该传感器晶片可包括衬底、覆盖物以及位于衬底和覆盖物之间的一个或多个组件。抗蚀涂层被形成在覆盖物和/或衬底的一个或多个表面上。涂层被配置成抵抗因蚀刻过程，该蚀刻过程蚀刻覆盖物和/或衬底的时...

公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公...

公开了用于对晶片（4）的至少一个表面（3）上的锯痕（2）进行三维检查的装置（1）和方法。需要至少一个相机（6）来捕捉晶片（4）的整个表面（3）的图像。至少一个线投影仪（8）提供以中心光束轴（9）为中心的光束（5）。线投影仪（8）被排列成...

提供了用于分析具有未知参数的样本衍射结构的散射测量模型优化参数的自动确定。预处理器根据多个浮动的模型参数，确定简化的模型参数集合，该简化的模型参数集合能够基于从关于每个参数的测得的光谱信息的雅克比矩阵中确定的用于每个参数的相对精度，合理...

披露了一种带有环形设置光源的环形灯照明器。对于每个光源对应有聚光器、均化装置以及歪像系统，该均化装置用于来自光源的光，而歪像系统用于将均化装置的输出成像到待照明区域中。歪像系统对由于光束在表面上的斜角入射而产生的光束在待照明表面中的截面...

描述了确定结构的光学计量的材料光学特性的方法。一种方法包括基于两个或更多个方位角和基于一个或多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合。然后基于衍射级的集合提供模拟的光谱。另一种方法包括基于两个或更多个入射角来模拟光栅结构的衍射级的集合。然...

公开了用于管理光学检查目标组分的系统和方法。一种方法可包括但不限于：将至少一个外用配方组分存储在检查工具节点；将至少一个代理组分与至少一个外用配方组分相关联；将至少一个外用配方组分与至少一个光学检查目标配方相关联；以及将包括至少一个代理...

提供了用于确定晶片检查和/或度量的参数的各个实施例。

揭示了一种用于将电子器件放入一输入介质的隔室中的方法。至少一个电子器件可被包在该输入介质的单个隔室中。通过一检查设备，对该输入介质的上侧之上的已知位置进行成像。基于这些已知位置的图像、这些已知位置的给定目标位置数据以及该输入介质的隔室的...

一种托盘托架系统具有托盘装载位置、托盘卸载位置以及四个平行轨道，这些轨道从托盘装载位置延伸至托盘卸载位置。每个托盘托架平台包括用于配合轨道的支架、附连于支架的摆臂、附连于摆臂用以选择性地保持和释放托盘的保持件以及用于使摆臂在打开位置和闭...

本发明提供了用于设置光学检查参数的范围的新方法与系统。例如，这些范围可能随后被用于检查光伏电池有没有变色。与检查参数（比如色调、饱和度和强度）相对应的一数值组是从一设置图像中获得的。该图像包括多个设置区域（比如定义的像素组），其中每一个...

本发明揭示了一种具有环状排列光源的环形光照明器。对于每个光源对应有光束成形器，该光束成形器包括聚光器、来自光源的光的均匀化装置以及用于将均匀化装置的输出成像到要照明区域上的成像装置。各个实施例中的均匀化装置为将来自聚光器的光引导至其中的...