【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于晶片检查或度量设置的数据扰乱相关串请的交叉引用本申请要求2010年6月30 日提交的题为“Perturbation Modeling-Based Recipe Generation (基于扰乱建模的配方产生)”的美国专利申请S/N. 61/360, 406的优先权，该文件如在本文中完全阐述一样通过引用结合于此。专利技术背景I.专利
本专利技术总地涉及晶片检查或度量设置的数据扰乱。2.
技术介绍
以下描述和示例不因其包括在该部分中而被视为现有技术。检查工艺在半导体制造工艺期间的多个步骤中使用以检查晶片上的缺陷从而促进制造工艺中更高的产量并因此产生更高的利润。检查一直是制造半导体器件的一个重要组成部分。然而，随着半导体器件的尺寸减小，由于更小的缺陷也会导致器件产生故障，因此检查对于合格半导体器件的成功制造变得更为重要。当前，用于产生能通过工具匹配规范的配方的方法是基于经验的。例如，可在第一工具(“工具I”)上创建一配方并随后在第二工具(“工具2”)上进行尝试。如果该配方无法通过工具2上的工具匹配规范，则修正配方并转向工具I并测试。如果经修正的配方未通过工具匹配规范...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：G·萨泰森达拉姆，M·马哈德万，A·古普塔，CH·A·陈，A·库卡尼，J·柯克伍德，K·吴，S·荣，
申请(专利权)人：克拉坦科股份有限公司，
类型：
国别省市：
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