【技术实现步骤摘要】
本发 明涉及深紫外薄膜光学技术应用领域，特别涉及。
技术介绍
近年来，随着ArF准分子激光在材料精细加工、深紫外光刻、材料处理和准分子医疗等诸多领域越来越广泛应用和长足发展，使得深紫外光学相关技术的研究具有重大的社会和经济价值。在深紫外的领域中，无论是ArF准分子激光器还是其他相关光学系统，都离不开深紫外波段的镀膜光学元件，因此迫切需要研制出在深紫外波段范围内性能优异的光学薄膜。为了制备出满足要求的薄膜光学元件，必须准确确定出所用薄膜材料在相应波段内的光学常数(折射率和消光系数)。在设计和计算光学薄膜元件的特性时，常常把块状材料的各向常数作为薄膜的光学常数，而且将薄膜简化成具有均匀折射率、消光系数和厚度的膜层。但是材料的光学常数在薄膜状态下和块状状态下差别很大，折射率出现的非均匀性、各向异性，以及消光系数出现的不均匀性和各向异性等。并且光学常数强烈依赖所采用的沉积方法，因此在各个具体的制备条件下，精确解析薄膜的光学常数是制备出高性能薄膜光学兀件的重要一环。解析薄膜材料光学常数的方法有很多，如分光光度法(光度法)、椭圆偏振法(椭偏法)、利用波导原理的棱镜耦合法、表...
【技术保护点】
一种非均匀折射率薄膜光学常数的测量方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a，对薄膜进行透过率和反射率光谱测量，得到光谱测量数据；步骤b，对薄膜进行变角度的椭圆偏振测量，得到椭偏参数；步骤c，根据步骤a和b的测量结果，将光谱测量数据和椭偏参数拟合，配合相应的色散关系，使用非均匀模型求解薄膜的光学常数。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金春水，常艳贺，李春，邓文渊，靳京城，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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