【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻用防尘薄膜组件的光掩模粘着剂，进一步涉及防尘薄膜组件粘着剂的成形形状。
技术介绍
LS I ,超L S I等的半导体制造或者液晶表不板等的制造中，半导体晶片或者液晶用原版用光照射，从而进行图案制作。在所述场合使用的曝光原版(光刻用光掩模)如有灰有尘为附着，所述灰尘会吸收光，从而使光弯曲，这不仅会使转印的图案变形，边沿不齐，还会使基地变黑，发生尺寸、品质、外观以及完成后的部件机能等受损的问题。由此，上述的作业，通常在无尘室中进行，但是即使在无尘室内，要保持曝光原版总是清净也是很难的，所以一般采取在曝光原版的表面贴附挡住灰尘，且使曝光用光良好通过的防尘薄膜组件的方法。在所述场合，灰尘不在曝光原版的表面上直接附着，而是在防尘薄膜上附着，如此只要在光刻时将焦点对准曝光原版的图案，防尘薄膜上的灰尘与转印就无关系了。防尘薄膜组件的基本的构成如图1，图2所示。是将使曝光用光良好透过的硝酸纤维素、醋酸纤维素以及氟类聚合物等构成的透明的防尘薄膜3贴附于下述防尘薄膜组件框架上，即在由实施了黑色氧化膜处理的A 7075, A 6061以及A 5052等的铝合金、不锈...
【技术保护点】
一种光刻用防尘薄膜组件，包括防尘薄膜、将所述防尘薄膜绷紧设置的防尘薄膜组件框架、所述防尘薄膜组件框架的一个端面形成的防尘薄膜贴附用的接着剂层、与所述防尘薄膜贴附用接着剂层相反侧的端面形成的光掩模粘着剂层，其特征在于:所述光掩模粘着剂层的截面为矩形或梯形，上端具有平坦面，并且，所述光掩模粘着剂层的侧面与框架面所成的角为90°以下。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：永田爱彦，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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