二自由度纳米定位平台制造技术

本发明专利技术公开了一种二自由度纳米定位平台，包括动平台和基座，所述动平台和所述基座通过X轴方向柔性支链和Y轴方向柔性支链连接。本发明专利技术采用柔性并联结构，具有高刚度、高精度、低惯量、结构紧凑、无误差积累等优点；采用柔性板簧作为传动部件，具有无机械摩擦、无间隙的优点。另外，本发明专利技术基于材料的弹性变形，柔性板簧所产生的变形以及执行器末端工作空间均很微小，可以有效消除并联机构固有的非线性等缺点；采用两个压电陶瓷驱动器分别驱动两个柔性支链，实现了压印光刻过程中模板和基片间相对位置的主动调整。本发明专利技术可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现微量进给和精密定位。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种微/纳精密工作台，特别是一种可为微/纳表面测量以及微/纳操作等领域提供精密平面定位的二自由度并联柔性精密定位工作台。
技术介绍
纳米器件包括纳米电子器件和纳米光电器件，可广泛应用于电子学、光学、微机械装置、新型计算机等，是当今新材料与新器件研究领域中最富有活力的研究领域，也是元器件小型化、智能化、高集成化等的主流发展方向。纳米器件由于具有潜在的巨大市场和国防价值，使得其设计和制造的方法、途径、工艺等成为众多科学家、政府和大型企业研究和投资的热点。目前，纳米器件的设计与制造正处于一个飞速发展时期，方法多种多样，图形化技术就是其中之一。纳米压印光刻技术是人们在探索更方便、价廉的设计和制备纳米器件的过程中开发出来的图形化技术，用于纳米图形复制并可用来制作三维纳米结构。与其它光刻技术相t匕，纳米压印技术具有分辨率高、制作成本低、生产效率高的优点，已成为下一代32纳米工艺的关键技术。具有极大潜在的竞争力和广阔的应用前景。在国内外纳米压印技术发展过程中，已逐渐形成了三大主流技术软压印技术、热压印技术、紫外压印技术。热压印技术可以弥补软压印工艺中弹性模板材料容易变形的不足，且加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二自由度纳米定位平台，其特征在于，包括动平台和基座，所述动平台和所述基座通过X轴方向柔性支链和Y轴方向柔性支链连接；所述X轴方向柔性支链包括沿平行X轴方向布置的压电陶瓷驱动器、沿平行Y轴方向布置的位移放大杠杆、第一移动块和第二移动块；所述沿平行X轴方向布置的压电陶瓷驱动器的尾端固定在所述基座上，顶端顶接在所述沿平行Y轴方向布置的位移放大杠杆的底部；所述沿平行Y轴方向布置的位移放大杠杆的底端通过沿平行X轴方向共线布置的两个第一圆形铰链连接在所述基座的内壁上，所述沿平行Y轴方向布置的位移放大杠杆的顶端通过沿X轴方向布置的第一一字型柔性板簧与所述第一移动块相连；所述第一移动块通过沿平行Y轴方向且...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：田延岭，秦岩丁，张大卫，田佳，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：