【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳米器件制作
,具体涉及一种。
技术介绍
纳米压印技术,是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术,纳米压印技术最早由Stephen Y Chou教授在1995年率先提出,这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形,而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。PDMS模板是一种简单方便的纳米压印模板复制材料,通常由本体材料和固化剂按一定比例混合而成,去除气泡后浇注在母模板表面,通过加热固化成弹性硅橡胶材料的工作模板,该种纳米压印模板用于大面积紫外纳米压印具有如下优点 1、成本低,可以从母模板反复复制PDMS模板; 2、本身具有弹性,受环境中污染粒子影响小,模板寿命长; 3、固化后表面具有缩水性,用于纳米压印无需抗粘处理; 4、柔性PDMS工作模板可以在大面积纳米压印中紧密结合基底不平整表面。但是,普通PDMS模板在纳米压印应用中也造成很多问题 1)普通PDMS模板的弹性模量为2 3MPa,在复制高密度或者高深宽比的结构时,由于表面能的作用,结构容易坍塌,并且 ...
【技术保护点】
一种纳米压印复合模板,其特征在于:所述复合模板为三层粘接结构,上层为高弹性模量PDMS层,中层为低弹性模量PDMS层,下层为塑料板或玻璃板,所述高弹性模量PDMS层的上表面具有微纳米压印结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:史晓华,冀然,
申请(专利权)人:苏州光舵微纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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