一种紫外纳米压印系统技术方案

本发明专利技术提出一种紫外纳米压印系统，本发明专利技术涉及特征尺寸为纳米级高分辨率图形的制作装置，属纳米加工技术领域。本发明专利技术由压印系统箱体和真空泵组成，其中压印系统箱体包括自动压力控制器、自动真空度控制器、自动曝光时间控制器和真空工作室。该系统通过自适应定位装置和精确控制压印环境、压印载荷、曝光时间来实现高精度、高效率的紫外纳米压印制造，具有结构紧凑、自动化程度高、使用方便的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纳米尺寸高分辨率图形加工
，特别涉及一种紫外纳米压印系统。
技术介绍
光学刻蚀技术由于受到光波波长的限制，很难制作线宽小于IOOnm的图案。极紫外线光刻、X光光刻、电子束投影、离子束投影、微型电子束阵列等一系列改进的实施，虽然能实现线宽在IOOnm以下的图案加工，但加工设备复杂，制作成本昂贵。随着半导体产业的发展，对纳米加工技术的提出了更高的要求，迫切需要一种工艺简单、成本低廉、生产效率闻的纳米制造技术。从1995年美籍华人Stephen Y. Chou提出纳米压印技术至今,纳米压印技术得到 了快速发展，目前已成为最具前景的纳米制造技术之一。纳米压印技术主要包括紫外纳米压印技术和热压印技术。紫外纳米压印技术是一种在室温、低压环境下利用紫外光固化高分子聚合物的压印技术，相比于热压印技术的高温高压环境要求，紫外纳米压印技术加工温度低、压力小、模板和基片变形小、图形分辨率高。紫外纳米压印系统是紫外纳米压印制造的主要设施。随着纳米压印技术的快速发展，紫外纳米压印系统也向着高精度、自动化、智能化发展。为了实现模板与基片的平行，保证二者之间受力均匀，进行了许多尝试，其中王庆本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外纳米压印系统包括：压印系统箱体（1）、真空泵（2）、自动压力控制器（3）、自动真空度控制器（4）、自动曝光时间控制器（5）、真空工作室（6）、真空工作室门（7）、观察窗（8）、导气管（9）、气囊（10）、力传感器（11）、紫外光源（12）、气囊进气电磁阀（13）、气囊抽气电磁阀（14）、真空室抽气电磁阀（15）、上定位台（16）、下定位台（17）、定位销（18）、定位孔（19）、上微调旋钮（20）、下微调旋钮（21）、减压阀（22）、模板（23）、基片（24）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢惠民，唐敏锦，戴相录，张建民，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：