大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机制造技术

本发明专利技术涉及高真空连续卷绕镀膜机技术领域，具体公开了一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机。该设备包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源圆形真空室由隔离板分隔成放卷区、前处理区、收卷区以及镀膜区；柔性基材卷绕系统中的冷鼓冷鼓伸入与冷鼓外壁相匹配的半圆环镀膜区的内环壁中，过辊机构保证基材从基材放卷，经过冷鼓进入基材收卷；磁控溅射源中的溅射源，从与柔性基材卷绕系统相对的方向伸入到圆形真空室中镀膜区对经过冷鼓的基材进行镀膜。该镀膜机能够一次完成多层膜系的镀膜，且不易使塑料基材起皱；同时，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源分别从两侧伸入或拖出到圆形真空室的结构，使设备操作维护方便。

【技术实现步骤摘要】
大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机
本专利技术属于高真空连续卷绕镀膜机
，具体涉及大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机。
技术介绍
高真空连续镀膜机，一直以来热蒸发镀膜机占有主导地位。其主要应用如食品包装镀铝膜，电容器膜，工业金属薄镀保护膜。近年来柔性基材热蒸发镀膜工艺有了新的应用，包括镀制光学膜，催化膜，高阻隔膜等新型功能膜，热蒸发连续镀膜机具有生产效率高的特点，但是所膜层均匀性差，结构相对简单。随着现代工业技术的发展，对于柔性基材的镀膜需求越来越大。对所镀膜层的功能性要求越来越高，膜系结构越来越复杂。磁控溅射卷绕镀膜机获得了巨大的发展，而使用磁控溅射工艺在塑料薄膜上镀膜时，由于其热载荷相对较大，有容易引起薄膜起皱的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，能够在塑料基材上镀多层膜，且不易使塑料基材起皱。本专利技术的技术方案如下一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源，其中，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出圆形真空室，圆形真空室由隔离板分隔成放卷区、前处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源，其中，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出圆形真空室，圆形真空室由隔离板(8)分隔成放卷区(1)、前处理区(2)以及收卷区(3)，且这三个区都单独通过真空阀门(7)与扩散泵(6)连接，在收卷区(3)中还设有半圆环空腔状的镀膜区(4)，其位于圆形真空室下方中部的，并分隔成若干个单独的空腔，且每个空腔都单独连接有分子泵(5)；柔性基材卷绕系统包括冷鼓(10)、基材放卷(15)、基材收卷(17)以及过辊机构，其中，冷鼓(10)伸入与冷鼓(10)外壁相匹配的半圆...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓波，韩大凯，赵军，饶敏，徐丽云，
申请(专利权)人：核工业西南物理研究院，
类型：发明
国别省市：