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本发明涉及高真空连续卷绕镀膜机技术领域，具体公开了一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机。该设备包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源圆形真空室由隔离板分隔成放卷区、前处理区、收卷区以及镀膜区；柔性基材卷绕系统中的冷鼓冷鼓伸入与冷鼓外...
该专利属于核工业西南物理研究院所有，仅供学习研究参考，未经过核工业西南物理研究院授权不得商用。

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