厚薄两用镀层厚度测量仪制造技术

技术编号:8451520 阅读:261 留言:0更新日期:2013-03-21 07:23
本发明专利技术涉及测量技术领域,具体涉及一种镀层厚度测量技术。厚薄两用镀层厚度测量仪,包括一设备支架,至少一固定在设备支架上的光检测装置,光检测装置连接一微型处理器系统,光检测装置设有一光源,光源采用红外激光器;光检测装置设有一光敏元件,光敏元件采用红外光敏二极管;设备支架设有一条状开口,红外激光器与红外光敏二极管分别位于条状开口两侧,呈对射关系;红外激光器通过一功率调整机构连接供电电源,通过功率调整机构调整发光强度。激光具有光照面集中、光强度强,具有穿透较厚的镀层的能力,可以适用于厚镀层。又因为具有亮度可调的特点,在降低亮度后,也可以适用于厚度较薄的镀层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及测量
,具体涉及一种镀层厚度测量技术。
技术介绍
在生活、生产中经常会用到镀膜产品,镀膜技术在工业生产中是材料技术中的重要
对于镀膜产品质量鉴定的重要指标是镀层的厚度,以及镀层的均匀性。因为镀层厚度往往极薄,给测量带来了很大难度。现有的技术中往往是通过检测镀层的透光性,来测定镀层的厚度。通过光对射检测装置的发光光源对镀层的一侧进行照射,将光对射检测装置的光敏器件设置在镀层的另一侧,从而获得镀层透光性数据,进而测定镀层的厚度。现有的光对射检测装置尚存在精度低、易受外界光线干扰等不足。现有的光对射检测装置使用参数相对固定,往往只能用于一种厚度范围的镀层, 对于超出厚度范围上限或者下限的镀层无法精准测量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供一种厚薄两用镀层厚度测量仪,以解决上述技术问题。本专利技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现厚薄两用镀层厚度测量仪,包括一设备支架,至少一固定在所述设备支架上的光检测装置,所述光检测装置连接一微型处理器系统,其特征在于,所述光检测装置设有一光源,所述光源采用红外激光器;所述光检测装置设有一光敏元件,所述光敏元件采用本文档来自技高网...

【技术保护点】
厚薄两用镀层厚度测量仪,包括一设备支架,至少一固定在所述设备支架上的光检测装置,所述光检测装置连接一微型处理器系统,其特征在于,所述光检测装置设有一光源,所述光源采用红外激光器;所述光检测装置设有一光敏元件,所述光敏元件采用红外光敏二极管;所述设备支架设有一条状开口,所述红外激光器与所述红外光敏二极管分别位于所述条状开口两侧,呈对射关系;所述红外激光器通过一功率调整机构连接供电电源,通过所述功率调整机构调整发光强度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈显东陈生贩江裕捺陈生镇陈发杰
申请(专利权)人:上海宏昊企业发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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