光学特性测量装置以及光学特性测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光学特性测量装置以及光学特性测量方法。光学特性测量装置(100)具备光源(10)、检测器(40)以及数据处理部(50)。数据处理部(50)具备建模部、分析部以及拟合部。将多个膜模型方程式联立，假设包含在多个膜模型方程式中的光学常数相同来进行规定的运算，通过进行将算出的膜的膜厚以及光学常数代入膜模型方程式而获得的波形与由检测器(40)获取的波长分布特性的波形的拟合来判定包含在多个膜模型方程式中的光学常数是否相同，由分析部算出的膜的膜厚以及光学常数是否为正确的值。

【技术实现步骤摘要】
光学特性测量装置以及光学特性测量方法
本专利技术涉及一种光学特性测量装置以及光学特性测量方法，涉及一种能够求出形成在基板上的膜的膜厚以及光学常数(折射率n、消光系数k)的光学特性测量装置以及光学特性测量方法。
技术介绍
在制造半导体装置、平板显示器时需要在基板上形成多个膜。为了测量所形成的膜的膜厚以及光学常数，例如使用日本特开2000-65536号公报(专利文献1)公开的反射分光膜厚计。反射分光膜厚计使从白色光源发射的光通过半透半反镜进行反射并通过透镜照射到基板上。而且，反射分光膜厚计使来自基板的反射光经由透镜通过半透半反镜而将其引导到分光器，在由分光器进行分光后由使用CCD等摄像元件的检测器来检测光谱。反射分光膜厚计通过对检测出的光谱进行处理，能够测量膜的膜厚以及光学常数。另外，例如还能够使用日本特开2004-138519号公报(专利文献2)公开的光谱椭偏仪来测量所形成的膜的膜厚以及光学常数。光谱椭偏仪从光源单元向基板发射偏振光，由感光单元接受来自基板的反射光来获取反射光的偏振状态的光谱，从而测量所形成的膜的膜厚以及光学常数。但是，在只根据由专利文献1公开的分光膜厚计、专利文献2公本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学特性测量装置，具备：光源，其向在基板上形成有至少一层膜的被测量物照射具有规定的波长范围的测量光；分光测量部，其基于被上述被测量物反射的光或者透过了上述被测量物的光来获取反射强度或者透射强度的波长分布特性；建模部，其生成多个膜模型方程式，各膜模型方程式至少包含上述膜的膜厚、上述膜的光学常数以及对于相同材料的上述膜获取多个上述波长分布特性并根据获取到的各个上述波长分布特性计算出的参数；分析部，其将由上述建模部生成的多个上述膜模型方程式联立，假设包含在多个上述膜模型方程式中的上述光学常数相同来进行规定的运算，计算上述膜的上述膜厚以及上述光学常数；以及拟合部，其进行将由上述分析部计算出的上述膜...

【技术特征摘要】
2011.08.12 JP 2011-1768171.一种光学特性测量装置，具备：光源，其向在基板上形成有至少一层膜的被测量物照射具有规定的波长范围的测量光；分光测量部，其基于被上述被测量物反射的光或者透过了上述被测量物的光来获取反射强度或者透射强度的波长分布特性；建模部，其生成多个膜模型方程式，各膜模型方程式至少包含上述膜的膜厚、上述膜的光学常数以及对于相同材料的上述膜获取多个上述波长分布特性并根据获取到的各个上述波长分布特性计算出的参数；分析部，其将由上述建模部生成的多个上述膜模型方程式联立，假设包含在多个上述膜模型方程式中的上述光学常数相同来进行规定的运算，计算上述膜的上述膜厚以及上述光学常数；以及拟合部，其进行将由上述分析部计算出的上述膜的上述膜厚以及上述光学常数代入上述膜模型方程式而获得的波形与由上述分光测量部获取到的上述波长分布特性的波形的拟合，由此来判定包含在多个上述膜模型方程式中的上述光学常数是否相同且由上述分析部计算出的上述膜的上述膜厚以及上述光学常数是否为正确的值，其中，上述分析部在上述规定的运算中使用非线性最小二乘法，使用上述非线性最小二乘法计算出的被测量物的残差是被测量物的各试样的残差的和，上述分析部根据被测量物的各试样的残差的大小的比例对上述光学常数的变化的大小进行定量。2.根据权利要求1所述的光学特性测量装置，其特征在于，根据上述波长分布特性计算出的上述参数...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎雄介，冈本宗大，
申请(专利权)人：大塚电子株式会社，
类型：发明
国别省市：