本发明专利技术公开了一种用于离子注入机的束流均匀性检测的装置。一种离子注入机可以产生宽带束或扁状带束，为使其正常工作发明专利技术一种检测束流均匀性装置。该装置主要包括：束流收集面板(1)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。该装置特征在于，束流收集面板(1)采用蜂窝式排列束流收集框，每一个束流收集框均可以独立检测束流大小；该装置特征还在于可以检测离子束流在聚焦情况下的束斑剖面密度分布和扫描情况下的束均匀性分布，尤其可以检测宽带束流或扁状带束。说明书对装置工作原理进行了详细的说明，并给出了具体的实施方案。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种蜂窝式束流均匀性检测装置，特别适合于半导体工艺设备中的离子注入机。
技术介绍
离子注入机是半导体工艺中离子掺杂的典型设备，离子源产生需要掺杂的离子束，离子束再经过质量分析、校正、加速，传输到处于靶室终端工艺腔体的硅片表面。随着半导体集成电路制造工艺越来越微细化，对半导体制造设备的性能要求也就越来越高。离子注入机是半导体器件制造中关键的掺杂设备之一，当器件制造工艺迈入特征尺寸90nm以下，晶圆片尺寸300mm时代，为了保证整个晶片上器件性能的一致性，必须对离子注入掺杂工艺中对整个晶片维持掺杂分布的均匀性有更高的要求。因此，对于注入工艺，低能量大速流的离子注入机是发展的方向。适用于该类离子注入机的离子源需要产生·宽带束或扁状带束。实时并精确检测离子注入束斑的形状和均匀性分布变得更加重要。本专利技术实现了束剖面、扫描束均匀性检测，为精确控制提供了条件。
技术实现思路
针对现有半导体工艺中离子注入机设备发展的要求，本专利技术是针对现有的离子注入机技术中，不能实时检测束流剖面及扫描束流分布的情况，提出了一种新的检测装置，该装置可以直接从装置检测结果得出束斑剖面分布及扫描束流分布，从而使实时精确的控制束流的分布变化提供了硬件基础。该装置亦涉及到束流收集面板上蜂窝式束流收集框，该束流收集框具有独立检测束流的电路单元。该装置亦涉及到一种束流收集板上下移动的方式，以便于实时检测束流。该方式将电机固定块固定，并通过齿轮和齿条将动力传递到束流收集板，驱动束流收集板上下移动。本专利技术有以下几个显著特点I.可以实时检测束流，输出信号易于观察和比较；2.结构简单，便于加工制造；附图说明图I是一种蜂窝式均匀性检测装置正视图。图2是检测离子束流在聚焦情况下的装置示意图。图3是检测宽带束流或扁状束流时的装置示意图。具体实施例方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步介绍，但不作为对本专利技术专利的限定。本专利技术公开了一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，如图I所示，和离子注入机用离子源一起使用。该装置为使其正常工作提供一种束流均匀性检测装置。如图I所示，该装置主要包括束流收集面板(I)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。束流收集面板(I)采用蜂窝式排列的束流收集框,集成了大量的束流收集框,如图I所示，每一个束流收集框为独立的检测点，均可以独立检测束流大小，并可以针对每个束流收集框输出检测信号。电机固定块(3)固定于离子注入机的腔体中，并通过齿轮⑷和齿条⑵将动力传递到束流收集板(I)，驱动束流收集板(I)上下移动。 该装置可以检测离子束流在聚焦情况下的束斑剖面密度分布，如图2所示，其中圆斑是束流。该装置亦可以检测宽带束流或扁状束流均匀性分布，如图3所示，其中方形斑为宽带束流。本专利技术的特定实施例已对本专利技术的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本专利技术精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本专利技术专利的侵犯，将承担相应的法律责任。权利要求1.一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，其中离子注入机可以产生宽带束或扁状带束，该装置为使其正常工作提供一种束流均匀性检测装置。该装置主要包括束流收集面板(I)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。2.如权力要求I所述的一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，该装置特征在于，束流收集面板(I)采用蜂窝式排列的束流收集框，集成了大量的束流收集框。3.如权力要求2所述的一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，该装置特征在于，每一个束流收集框均可以独立检测束流大小，并可以针对每个收集点输出检测信号。4.如权力要求I所述的一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，该装置特征还在于，可以检测离子束流在聚焦情况下的束斑剖面密度分布和扫描情况下的束均匀性分布，尤其可以检测宽带束流或扁状带束。5.如权力要求I所述的一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，该装置特征还在于，电机固定块⑶固定，并通过齿轮⑷和齿条⑵将动力传递到束流收集板⑴，驱动束流收集板(I)上下移动。全文摘要本专利技术公开了一种用于离子注入机的束流均匀性检测的装置。一种离子注入机可以产生宽带束或扁状带束，为使其正常工作专利技术一种检测束流均匀性装置。该装置主要包括束流收集面板(1)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。该装置特征在于，束流收集面板(1)采用蜂窝式排列束流收集框，每一个束流收集框均可以独立检测束流大小；该装置特征还在于可以检测离子束流在聚焦情况下的束斑剖面密度分布和扫描情况下的束均匀性分布，尤其可以检测宽带束流或扁状带束。说明书对装置工作原理进行了详细的说明，并给出了具体的实施方案。文档编号H01J37/304GK102956424SQ20111024114公开日2013年3月6日 申请日期2011年8月22日 优先权日2011年8月22日专利技术者胡宝富, 唐景庭, 谢均宇 申请人:北京中科信电子装备有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于离子注入机的离子束流均匀性检测装置，其中离子注入机可以产生宽带束或扁状带束，该装置为使其正常工作提供一种束流均匀性检测装置。该装置主要包括：束流收集面板(1)、齿条(2)、电机固定块(3)、齿轮(4)等。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡宝富，唐景庭，谢均宇，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。