壳体的制备方法及由该方法所制得的壳体技术

本发明专利技术提供一种具有黑色外观的壳体的制备方法，其包括如下步骤：提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为CrxCy层，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬；该色彩层呈现的色度区域于CIELab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-0.1至0.1之间，b*坐标介于-0.1至0.1之间。本发明专利技术还提供一种由上述方法制得的壳体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种壳体的制备方法及由该方法所制得的壳体。
技术介绍
目前最常用的制备黑色涂层的方法为电化学方法，如阳极氧化黑色膜，镀黑镍、黑铬等，但该类方法污染重不环保。PVD镀膜技术是一种较为环保的镀膜工艺。然而，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的黑色膜层容易出现异色、黑中带蓝及黑中带红等现象，严重影响了黑色膜层的美观性； 且利用PVD制备的黑色膜层往往黑色的深度不够，膜层的色度区域于CIE Lab表色系统中的L*值通常只能达到35左右，继续降低L*值存在很大难度。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种有效解决上述问题的黑色的PVD镀膜的壳体的制备方法。另外，本专利技术还提供一种由上述方法制得的壳体。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤 提供一基体； 在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为铬-碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬，其中金属铬的质量百分含量为50、0%，碳化铬的质量百分含量为1(Γ50% ;该色彩层呈现的色度区域于CIE Lab表色系统的L*坐本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种壳体的制备方法，其包括如下步骤：提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为铬?碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬，其中金属铬的质量百分含量为50~90%，碳化铬的质量百分含量为10~50%；该色彩层呈现的色度区域于CIE?Lab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于?0.1至0.1之间，b*坐标介于?0.1至0.1之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋焕梧，陈正士，徐华阳，张娟，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：