聚合物支载硼氢阴离子还原剂合成阿奇霉素中间体的方法技术

本发明专利技术提供一种利用聚合物支载硼氢阴离子还原剂用于合成阿奇霉素中间体的方法，包括通过离子交换将硼氢阴离子接枝到离子交换树脂上制备聚合物还原剂，适当处理后用该还原剂处理红霉素亚胺醚得到阿奇霉素关键中间体9-脱氧-α-氮杂-9a-类红霉素A。本发明专利技术制得的中间体不含类红霉素A的硼化物，减少了操作步骤避免了药物损失。本发明专利技术的优点在于收率高、品质好、操作简便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及聚合物支载硼氢阴离子还原剂用于合成阿奇霉素中间体的方法，属药物中间体合成

技术介绍
阿奇霉素(Azithromycin)CAS :83905-01-5 化学名称(2R, 3S, 4R, 5R, 8R, IOR,I IR, 12S, 13S, 14R) -13- ~2~ 乙基-3，4, 10- 二轻基-3，5, 6, 8, 10, 12, 14b 甲基 _11_ 氧]-I-氧杂-6-氮杂环十五烷-15酮，为第二代大环内酯类抗菌药，通过阻碍细菌转肽过程，抑制细菌蛋白质合成而杀灭细菌。对革兰氏阳性菌、部分革兰氏阴性菌、厌氧菌、支原体、螺旋体、衣原体均有较强抗菌作用，对呼吸道感染疗效显 著。阿奇霉素生物利用度高、体内抗菌活性强、组织渗透性强、效显著、安全性及耐受性好，人体药物动力学表明阿奇霉素生物半衰期非常长，具有很好的临床使用价值。阿奇霉素合成过程中的一个关键中间体为9-脱氧-α -氮杂-9a_类红霉素A，该中间体是由红霉素A6，9亚胺醚和红霉素A9，11亚胺醚经还原加氢制得。目前使用的还原方法主要有两种，方法(I)催化加氢，方法(2)硼氢化钾化学还原。方法(I)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚合物支载硼氢阴离子还原剂用于合成阿奇霉素中间体的方法：包括取强碱性阴离子交换树脂加入氢氧化钠溶液中浸泡；滤出树脂，用去离子水冲洗至pH=8；加入1mol/L硼氢化钾溶液中搅拌下交换约10小时，滤出树脂并用去离子水冲洗，然后依次用乙醇、二氯甲烷冲洗树脂，冲洗完成得聚合物硼氢阴离子还原剂；将红霉素A亚胺醚溶液降温至0?10℃，搅拌下投入处理后的离子交换树脂，保温反应12小时；滤出树脂，（或将离子交互树脂装柱，将低温溶液泵入反应柱，打循环12小时）并用溶剂冲洗，冲洗液与滤液合并，得到目标产物溶液；滤出的离子交换树脂先用乙醇冲洗，然后用去离子水冲洗后重新投入氢氧化钠溶液浸泡即可再用于支载硼氢阴离...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李凡华，王文慧，孙洋涛，张允杰，王兴路，
申请(专利权)人：山东方明药业集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：