一种烘烤架及具有其的烘烤箱制造技术

本实用新型专利技术提供了一种烘烤架及具有其的烘烤箱，该烘烤架用于烘干涂覆于基板表面的胶面时支撑基板，包括：烤架本体，烤架本体包括相对设置的上表面和下表面；定位块，多个定位块设置于烤架本体的上表面，每个定位块包括支撑面，支撑面用于与上表面具有间隔地支撑基板。通过设置位于烤架本体上表面的定位块，使基板在定位块支撑面的支撑下与烤架本体上表面之间形成一定的距离；利用定位块支撑的方法，减少了夹具对基板烘干效果的影响，可有效的改善胶面的均匀性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及加热设备领域，具体而言，涉及一种烘烤架及具有其的烘烤箱。
技术介绍
匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。即匀胶铬版分为玻璃基版层、镀氮化铬-氮氧化铬薄膜层、匀胶层。一个典型的匀胶过程(涂敷光刻胶的过程)包括滴胶、高速旋转以及干燥(溶剂 挥发)几个步骤。干燥的过程目前主要有两种方式，一种为热板烘烤方式，另一种为烘箱烘烤方式。如图I所示，现有技术在烘箱中烘烤时基板51采用直立摆放形式，在夹具42的接触处因烘烤箱中的循环风沿箭头D所示方向从后往前送风的时候易被夹具42挡住而容易导致基板51胶面均匀性变差，而且在送入烤架本体41的时候，烤架本体41与烘烤箱摩擦产生颗粒，颗粒因自重，易往下落，粘附在基版的胶面上，烘干后难以去除。
技术实现思路
本技术旨在提供一种烘烤架及具有其的烘烤箱，以解决现有技术中基板胶面均匀性差和颗粒粘附在基板的胶面的技术问题。为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烘烤架，用于烘干涂覆于基板表面的胶面时支撑所述基板，其特征在于，包括：烤架本体(1)，所述烤架本体(1)包括相对设置的上表面和下表面；定位块(2)，多个所述定位块(2)设置于所述烤架本体(1)的所述上表面，每个所述定位块(2)包括支撑面，所述支撑面用于与所述上表面具有间隔地支撑所述基板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，邓辉，
申请(专利权)人：湖南电子信息产业集团有限公司，湖南普照信息材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：