涂覆玻璃基板的设备及方法技术

本发明专利技术涉及使用一种或多种液态原材料涂覆基板（15）的设备和方法，包括：至少一个雾化器（2），用于将一种或多种液态原材料雾化成微滴（3）；充电部件（4；32），用于在雾化期间或雾化之后对微滴（3）电性充电；以及沉积腔室（16），在所述沉积腔室（16）中微滴（3）沉积在基板（15）上，沉积腔室（16）设置有一个或多个电场，用于将电性充电的微滴（3）引导到基板（15）上。根据本发明专利技术，设置有这样的充电腔室（1），所述充电腔室布置在所述沉积腔室（16）的上游，并且设置有用于对该微滴（3）电性充电的充电部件（4）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种涂覆玻璃基板的设备，且更具体地涉及根据权利要求I的前序部分所述的设备。本专利技术进一步涉及一种涂覆玻璃基板的方法，具体地涉及根据权利要求18的前序部分所述的方法。
技术介绍
众所周知的是，通过将液态起始材料雾化为微滴并且将形成的微滴引导到待涂覆的玻璃的表面上来生产涂层，能够使用液态起始材料涂覆玻璃。换句话说，根据现有技术，微滴是以液态微滴的形式被带至待涂覆的基板表面，由此在基板表面上形成涂层，使得被带至表面上的微滴先被热解或微滴的可蒸发物质被蒸发，以在基板表面形成涂层。另一种现有技术的用于在玻璃基板上形成涂层的方法使用气相沉积法，其中，液态起始材料先被·雾化成液态微滴，而液态微滴更进一步被蒸发，使得蒸发的起始材料与玻璃表面发生反应或者相互发生反应，以在玻璃表面上形成涂层。上述现有技术的涂覆处理的问题在于，由于难以控制所形成的液态微滴的分布，所以所生成的涂层是不均匀的。换句话说，所生成的涂层的均匀度将取决于微滴在玻璃基板上沉积的均匀度或微滴在被蒸发时的均匀度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种涂覆玻璃基板的设备及一种涂覆玻璃基板的方法，以克服前述问题。本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：S·考皮宁，M·拉贾拉，
申请(专利权)人：BENEQ有限公司，
类型：
国别省市：