【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一 太阳能电池片的生产设备,特别是一种改进的太阳能电池片PECVD设备。
技术介绍
目前,现有的太阳能电池片PECVD设备一般包括有反应腔室,该反应腔室包括有附尘槽及供气装置,该供气装置包括有特气管道及固定于所述附尘槽上的设有气体喷淋小孔的气体喷淋管,该气体喷淋管与特气管道相连通。此种结构的太阳能电池片PECVD设备在对样品表面沉积形成固态薄膜的过程中,Si3N4也会附着于附尘槽和气体喷淋小孔上,经过长时间的生产后,附尘槽和气体喷淋小孔上会附着一层厚厚的Si3N4,当气体喷淋小孔被堵时,就会影响特气的流量,从而影响到硅片的膜厚以及折射率,导致不良片。因此需要经常对设备进行保养,清理附尘槽上的Si3N4以及对气体喷淋小孔用电钻进行通孔,且通孔时,钻头很容易断裂,卡在孔里,且清理下来的Si3N4有很多仍会遗留在特气管道内,当气体喷淋小孔或特气管道被堵时,可能还要进行更换,提高了成本,且保养设备需耗费很多时间及精力,降低了产量,给企业带来经济损失。
技术实现思路
本技术的主要目的是克服现有技术的缺点,提供一种更加便于保养,可降低成本,提高产量,给企业带来更好的经济 ...
【技术保护点】
一种改进的太阳能电池片PECVD设备,包括有反应腔室,该反应腔室包括有附尘槽及供气装置,该供气装置包括有特气管道及固定于所述附尘槽上的设有气体喷淋小孔的气体喷淋管,该气体喷淋管与特气管道相连通,其特征在于:所述气体喷淋管上附有一可拆卸的附尘板,该附尘板上设有与所述气体喷淋管上的气体喷淋小孔相对应的相同孔径的附尘孔,该附尘孔与气体喷淋管上与其相对应的气体喷淋小孔相重合。
【技术特征摘要】
1.一种改进的太阳能电池片PECVD设备,包括有反应腔室,该反应腔室包括有附尘槽及供气装置,该供气装置包括有特气管道及固定于所述附尘槽上的设有气体喷淋小孔的气体喷淋管,该气体喷淋管与特气管道相连通,其特征在于所述气体喷淋管上附有一可拆卸的附尘板,该附尘板上设有与所述气体喷淋管上的气体喷淋小孔相对应的相同孔径的附尘孔,该附尘孔与气体喷淋管上与其相对应的气体喷淋小孔相重合。2.如权利要求I所述的一种改进的太...
【专利技术属性】
技术研发人员:林国春,许新湖,梁兴芳,
申请(专利权)人:阳光大地福建新能源有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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