【技术实现步骤摘要】
本技术涉及液晶显示技术,特别涉及一种基板上残留物的检测装置。
技术介绍
在制造液晶显示器(IXD)的过程中,需要沉积薄膜,再涂覆光刻胶,曝光显影制作图案,然后进行刻蚀工艺得到相应图案,最后再剥离掉光刻胶。这就要求每次的刻蚀工艺后,能够从玻璃基板上完全剥离需要剥离的光刻胶,以免残留的光刻胶等残留物污染沉积设备,影响薄膜的品质。目前,通常通过肉眼检测玻璃基板上需要剥离的光刻胶是否完全剥离,这种操作方式的准确率低,并且耗时长。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的主要目的在于提供一种基板上残留物的检测装置,以提闻基板上的残留物检测的准确率。为达到上述目的,本技术的技术方案是这样实现的一种基板上残留物的检测装置,该装置包括检测信号发射源、检测信号接收器和控制器;其中,所述检测信号发射源,用于向基板发射波信号;所述检测信号接收器,用于接收基板所反馈的波信号,并将收到的波信号中用于检测残留物的有用信息发送给控制器;所述控制器中预先设置有用于检测残留物的有用信息与物质的材质之间的对应关系,所述控制器用于根据该对应关系确定收到的用于检测残留物的有用信息所对应的物质的材质是否为残留物。上述 ...
【技术保护点】
一种基板上残留物的检测装置,其特征在于,该装置包括检测信号发射源、检测信号接收器和控制器;其中,所述检测信号发射源,用于向基板发射波信号;所述检测信号接收器,用于接收基板所反馈的波信号,并将收到的波信号中用于检测残留物的有用信息发送给控制器;所述控制器中预先设置有用于检测残留物的有用信息与物质的材质之间的对应关系,所述控制器用于根据该对应关系确定收到的用于检测残留物的有用信息所对应的物质的材质是否为残留物。
【技术特征摘要】
1.一种基板上残留物的检测装置,其特征在于,该装置包括检测信号发射源、检测信号接收器和控制器;其中,所述检测信号发射源,用于向基板发射波信号;所述检测信号接收器,用于接收基板所反馈的波信号,并将收到的波信号中用于检测残留物的有用信息发送给控制器;所述控制器中预先设置有用于检测残留物的有用信息与物质的材质之间的对应关系,所述控制器用于根据该对应关系确定收到的用于检测残留物的有用信息所对应的物质的材质是否为残留物。2.根据权利要求I所述的装置,其特征在于,所述检测信号发射源为光源,用于发射光;所述检测信号接收器为光电传感器,用于接收所述光源被基板反射后所发出的光信号,并将收到的光信号转换为电信号,再将该电信号发送给所述控制器。3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述控制器中预先设置的所述对应关系为电信号的大小与物质的材质之间的对应关系。4.根据权利要求2或3所述的装置,其特征在于,所述光源、光电传感器以及控制器中的任何一个或多个,设置于操控基板的机械手上。5.根据权利要求I所述的装置,其特征在于,所述检测信号发射源为声波源,用于发射声波;所述检测...
【专利技术属性】
技术研发人员:阎长江,姜晓辉,
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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