基板水分检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种基板水分检测装置，包括：用于与基板表面接触，并传送基板的滚轮；用于获取滚轮外周面上水分信息的水分检测机构，水分检测机构包括至少一个水分检测仪，水分检测仪具有第一状态和第二状态；用于对水分检测仪进行干燥处理的干燥机构；用于控制水分检测仪在第一状态和第二状态之间切换的切换机构；在第一状态，水分检测仪移动至与滚轮的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮外周面上水分信息；在第二状态，水分检测仪移动至位于干燥机构内的第二位置，以进行干燥处理。本实用新型专利技术的基板水分检测装置，可以有效防止带有水渍的基板进入干法刻蚀设备，提高干法刻蚀设备运行稳定性，提高设备寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，尤其涉及一种在显示器制造过程中用于对基板的吹干效果进行检测的基板水分检测装置。
技术介绍
TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管显示器)阵列基板在制造工艺中，玻璃基板在进行湿法刻蚀(Wet Etch)之后，要进入干法刻蚀(Dry Etch)设备内进行灰化刻蚀(Ashing Etch)、有源层刻蚀(Active Etch)。玻璃基板在湿法刻蚀工艺段清洗后，会经过气刀(Air Knife)吹干再进入干法刻蚀设备内。如果吹干效果不好，玻璃基板背面将带有水渍进入干法刻蚀设备，这将引起玻璃基板在PC内损坏。若玻璃基板在PC内发生损坏后，干法刻蚀设备需要降温、通风(Vent For Atmosphere)、开腔、取走基板、清洁、重启等过程，会严重影响产能，给企业带来极大损失。
技术实现思路
本技术的目的就在于提供一种基板水分检测装置，能够对湿法刻蚀之后的基板在吹干之后，进入干法刻蚀设备之前，进行水分检测，有效防止带有水渍基板进入干法刻蚀设备，而提高干法刻蚀设备运行稳定性，提高设备寿命。本技术所提供的技术方案如下:一种基板水分检测装置，包括:用于与基板表面接触，并传送基板的滚轮；用于获取滚轮外周面上水分信息的水分检测机构，所述水分检测机构包括至少一个水分检测仪，所述水分检测仪具有第一状态和第二状态；用于对所述水分检测仪进行干燥处理的干燥机构；用于控制所述水分检测仪在所述第一状态和所述第二状态之间切换的切换机构；其中在所述第一状态，所述水分检测仪移动至与所述滚轮的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮外周面上水分信息；在所述第二状态，所述水分检测仪移动至位于所述干燥机构内的第二位置，以进行干燥处理。进一步的，所述水分检测仪包括:用于与滚轮外周面相接触的电阻器件，所述电阻器件能够根据从滚轮所吸收的水量不同，而电阻值发生变化；以及，用于检测所述电阻器件的电阻值的电阻检测部件。进一步的，所述干燥机构包括:干燥室，所述干燥室上设有用于供所述水分检测仪进入的活动门；以及，用于对所述干燥室进行抽真空处理的真空栗，所述真空栗与所述干燥室连接。进一步的，所述干燥机构还包括:用于向所述干燥室内吹送气流的吹风喷头，所述吹风喷头设置于所述干燥室内。进一步的，所述吹风喷头有多个，且多个所述吹风喷头分布于所述干燥室内的不同位置，以使多个所述吹风喷头能够分别从不同预定方向吹送气流。进一步的，所述干燥机构还包括:用于改变所述吹风喷头的吹风角度的角度调整结构，所述吹风喷头通过所述角度调整结构活动连接在所述干燥室内。进一步的，所述滚轮设置于所述干燥机构的上方，并与所述干燥机构之间留有预定距离；所述切换机构包括:设置于所述滚轮与所述干燥机构之间的第一旋转轴；以及，套设在所述第一旋转轴上的连接部，所述连接部包括用于安装所述水分检测仪的第一端，所述连接部能够在所述第一旋转轴带动下进行旋转，以使所述第一端在所述第一位置和所述第二位置之间切换。进一步的，所述连接部还包括与所述第一端相对的第二端，且所述连接部能够在所述第一旋转轴带动下进行旋转，以使所述第一端和所述第二端在所述第一位置和所述第二位置之间相互交换位置；所述水分检测机构中包括两个所述水分检测仪，且两个水分检测仪分别安装在所述连接部的第一端和第二端，以使得当两个水分检测仪中一个水分检测仪处于第一状态时，另一个水分检测仪处于第二状态。进一步的，所述基板水分检测装置还包括:用于将所述水分检测仪的水分信息与预设值进行比较，并根据比较结果控制所述切换机构的工作状态的控制机构。进一步的，所述基板水分检测装置包括:多个所述滚轮，其中多个所述滚轮通过第二旋转轴连接，并在所述第二旋转轴带动下滚动。本技术所带来的有益效果如下:本技术所提供的基板水分检测装置，可以在滚轮上传送基板，而使滚轮的外周面获取到基板的表面上的水分含量，而滚轮外周面相接触的水分检测仪，可以检测滚轮外周面上水分含量，以对基板表面的水渍进行检测，并且，水分检测仪可以在干燥机构和滚轮外周面接触的两种位置之间切换，利用干燥机构来对水分检测仪进行干燥，而保证水分检测仪的工作可靠性和准确性，由此，该基板水分检测装置实现对进入干法刻蚀设备之前的基板的干燥效果进行检测的目的，而有效地防止带有水渍的基板进入干法刻蚀设备，提高干法刻蚀设备运行稳定性，提高设备寿命。【附图说明】图1表示本技术实施例中提供的基板水分检测装置的结构示意图。【具体实施方式】以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围。针对现有技术中进入干法刻蚀设备之间的基板干燥效果不好会导致影响干法刻蚀设备运行稳定性，影响产能的技术问题，本技术提供了一种基板水分检测装置，可以有效防止带有水渍基板进入干法刻蚀设备，而提高干法刻蚀设备运行稳定性，提高设备寿命O如图1所示，本技术所提供的基板检测装置包括:用于与基板10表面接触，并传送基板10的滚轮100 ;用于获取滚轮100外周面上水分信息的水分检测机构，所述水分检测机构包括至少一个水分检测仪200，所述水分检测仪200具有第一状态和第二状态；用于对所述水分检测仪200进行干燥处理的干燥机构300 ;用于控制所述水分检测仪200在所述第一状态和所述第二状态之间切换的切换机构；其中在所述第一状态，所述水分检测仪200移动至与所述滚轮100的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮100外周面上水分信息；在所述第二状态，所述水分检测仪200移动至位于所述干燥机构300内的第二位置，以进行干燥处理。本技术所提供的基板水分检测装置，可以在滚轮100上传送基板10，而使滚轮100的外周面获取到基板10的表面上的水分含量，而滚轮100外周面相接触的水分检测仪200，可以检测滚轮100外周面上水分含量，以对基板10表面的水渍进行检测，并且，水分检测仪200可以在干燥机构300和滚轮100外周面接触的两种位置之间切换，利用干燥机构300来对水分检测仪200进行干燥，而保证水分检测仪200的工作可靠性和准确性，由此，该基板水分检测装置实现对进入干法刻蚀设备之前的基板10的干燥效果进行检测的目的，而有效地防止带有水渍的基板10进入干法刻蚀设备，提高干法刻蚀设备运行稳定性，提当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板水分检测装置，其特征在于，包括：用于与基板表面接触，并传送基板的滚轮；用于获取滚轮外周面上水分信息的水分检测机构，所述水分检测机构包括至少一个水分检测仪，所述水分检测仪具有第一状态和第二状态；用于对所述水分检测仪进行干燥处理的干燥机构；用于控制所述水分检测仪在所述第一状态和所述第二状态之间切换的切换机构；其中在所述第一状态，所述水分检测仪移动至与所述滚轮的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮外周面上水分信息；在所述第二状态，所述水分检测仪移动至位于所述干燥机构内的第二位置，以进行干燥处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石岩，李伟，郑云友，白忠飞，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11