【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种对通过放射线检测器检测放射线时使用的二维位置图进行校正的二维位置图校正方法，该放射线检测器包括多个闪烁体元件和以光学方式耦合到这些闪烁体元件的光学传感器。
技术介绍
作为核医学诊断装置即ECT(Emission ComputedTomography：发射计算机断层扫描)装置，以PET(PositronEmission Tomography：正电子发射断层摄影)装置为例进行说明。PET装置构成为：检测由于阳电子(Positron)即正电子的湮没而产生的多道γ射线，仅当用多个检测器同时检测到γ射线时重构被检体的断层图像。具体地说，将包含阳电子放射性核素的放射性药剂投放到被检体内，利用由多个检测元件(例如闪烁体)组构成的检测器检测从所投放到的被检体内放射的511KeV的湮没γ射线。而且，在用两个检测器在固定时间内检测到γ射线的情况下设为同时检测到，将其作为一对湮没γ射线进行计数，并且将湮没发生地点确定在检测到的检测器对的直线上。对这种同时计数信息进行累积来进行重构处理，从而获得阳电子放射性核素分布图像(即断层图像)。此时，不仅作为在检测器中获得γ射线的检测位置(γ射线的入射位置)，而且作为更加详细的γ射线的入射位置来辨别闪烁体中的γ射线的入射位置，由此提高γ射线的检测精度，提高断层图像的图像分辨率。因此，能够增加闪烁体的数量来提高辨别能力。特别是...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.10 JP 2010-1330651.一种二维位置图校正方法，根据二维位置图来制作查询
表，该二维位置图在通过包括多个闪烁体元件和光学传感器的
放射线检测器检测放射线时使用，该二维位置图是使由上述光
学传感器获得的信号强度与入射到上述闪烁体元件的上述放射
线的入射位置相对应地以二维状表示，其中，该多个闪烁体元
件配置成一维、二维或者三维，该光学传感器以光学方式耦合
到这些闪烁体元件，该二维位置图校正方法的特征在于，包括
以下步骤：
直方图形成步骤，将上述二维位置图的信号强度作为纵轴
且将上述二维位置图的坐标轴方向作为横轴来形成直方图，从
而获取直方图；以及
图判断步骤，针对在该直方图形成步骤中获取到的上述直
方图被分割点划分出的区域应用图判断条件，该图判断条件使
用了从对上述二维位置图纵横地进行划分而得到的网格形状提
取出的特征量，
其中，变更上述被分割点划分出的区域来反复进行上述图
判断步骤，直到在该图判断步骤中满足该图判断条件为止。
2.根据权利要求1所述的二维位置图校正方法，其特征在
于，
在上述直方图形成步骤中，沿着上述二维位置图的坐标轴
求出信号强度的总和，将该信号强度的总和作为纵轴且将与该
坐标轴正交的坐标轴作为横轴来形成直方图，从而获取上述直
方图。
3.根据权利要求1或2所述的二维位置图校正方法，其特征
在于，
针对上述被分割点划分出的区域应用上述图判断条件，按
信号强度的总和从大到小的顺序变更上述被分割点划分出的区
\t域来反复进行上述图判断步骤，直到满足该图判断条件为止。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的二维位置图校正方
法，其特征在于，
在上述图判断步骤反复进行的次数超过预先设定的次数的
情况下停止校正。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的二维位置图校正方
法，其特征在于，
在上述图判断步骤中，在没有了上述被分割点划分出的区
域的情况下停止校正。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的二维位置图校正方
法，其特征在于，
还包括分割点确定步骤，在该分割点确定步骤中对上述直
方图的各信号强度进行比较来分别求出各极小值，将这些极小
值的位置确定为上述分割点。
7.根据权利要求6所述的二维位置图校正方法，其特征在
于，
上述分割点确定步骤是将作为基准的上述分割点确定为分
割基准点的分割基准点确定步骤。
8.根据权利要求6所述的二维位置图校正方法，其特征在
于，上述分割点确定步骤包括如下步骤：
临时分割基准点确定步骤，将暂时作为基准的上述分割点
确定为临时分割基准点，
分割基准点确定步骤，对以在该临时分割基准点确定步骤
中确定的上述临时分割基准点划分出的区域中的各信号强度进
行比较来分别求出各极小值，将这些极小值的位置确定为作为...
【专利技术属性】
技术研发人员：山田贤志，津田伦明，佐藤允信，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：
国别省市：
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