【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种空间增益均匀性和分辨率得到改进的X射线探测器。此外，本专利技术涉及一种生产这种X射线探测器的方法。
技术介绍
X射线探测器通常包括将入射的X射线转换成光的闪烁体层以及光探测布置，诸如CMOS光探测器，其用于探测在闪烁体层之内生成并入射在光探测布置的检测表面上的光。已经观察到，这样的X射线探测器可能有幻像的问题。因此，W02008/126009提出使用二次辐射源利用波长不同于入射X射线波长的二次辐射辐照闪烁体层。通过辐照这样的二次辐射，所提出的X射线探测器可能能够产生闪烁体对入射X射线在空间上更均匀的 响应。例如，可以使用发光片或LED边缘发光波导板来提供二次辐射。在“背发光”布置中，可以将二次辐射源放置在光探测布置后方。在这种情况下，光探测布置应当具有透明承载基底。或者，在“前发光”布置中，可以将二次辐射源放置在闪烁体层上方。在这种情况下，二次辐射源应当对X射线基本透明并对这种辐射而言是鲁棒的。
技术实现思路
可能有利的是提供一种空间增益均匀性和分辨率得到改进的X射线探测器。具体而言，可能有利的是提供一种具有高且均匀分辨率并防止幻像的X射线探测器。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：C·A·费许雷恩，H·施泰因豪泽，T·普尔特，H·J·科内利森，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。