纳米金属粉体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种纳米金属粉体的制造方法，其利用微影制程技术，形成纳米图案光罩，并蚀刻金属薄膜，以形成与该光罩纳米图案对应的纳米图案，从而获得纳米金属粉体。本发明专利技术所提供的纳米金属粉体的制造方法利用可形成纳米图案的微影制程技术，因而能获得尺寸均一可控且分散性好的纳米金属粉体，适合于制造铜、铝、镍等金属粉体。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于纳米材料制造领域，特别涉及。
技术介绍
近年来，随着纳米科技发展，使得纳米材料需求日渐增长，各种纳米材料制造方法层出不穷，如纳米金属粉体的制备方法，通常有气相法、固相法及液相法等。其中气相法通常需要专用设备，成本较高，不适于大规模工业化生产；而固相法所得粉体纯度不高；液相法相对较为简单易行，成本也较低，但是，液相反应过程中，会出现纳米粒子容易聚集成块及稳定性差等现象。如2003年9月17日公开的中国专利申请第02104330.2号揭露一种金属纳米粉体的制备方法。其采用双注法，通过选择还原剂并有保护剂及调节剂存在的情况下还原金属盐，从而获得30～100nm金属粉体。该方法工艺较为简单，但是，当金属粉体与溶液分离时需反复洗涤浸泡，即需多次重复相同的步骤，否则得不到纯度较高的产品，因而不利于大规模工业化生产。如2003年12月31日公开的中国专利申请第02124740.4号揭露一种纳米贵金属的制备及其应用。其以水溶性聚乙二醇为稳定剂以醇类为还原剂还原贵金属酸或其盐，从而获得单分散带稳定剂的贵金属纳米粒子。还原过程中加入弱极性或非极性絮凝剂，然后在一定温度下搅拌、冷却、静置、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米金属粉体的制造方法，其特征在于该方法包括以下步骤：　　　　提供一基底；　　　　在基底上沉积一层预定厚度的金属薄膜；　　　　在金属薄膜上涂布一光阻层，并通过一具预定纳米图案的光罩对光阻层进行曝光处理；　　　　蚀刻金属薄膜，得到与预定纳米图案对应的图案；　　　　去除基底及其它残留物，即得金属粉体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：简扬昌，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]