液浸构件及液浸曝光装置制造方法及图纸

一种液浸构件(3)，配置在液浸曝光装置(Ex)内，且至少部分配置于光学构件(8)周围及通过光学构件与物体(P)之间的液体的曝光用光的光路(K)周围。液浸构件具备：第1构件(28)，具有回收物体上的空间的液体的至少一些的回收口(18)；回收流路(19)，供从回收口回收的液体流动；第2构件(27)，面对回收流路并具有用以从回收流路排出液体的第1排出口(21)；以及第3构件(32)，面对回收流路并具有用以从回收流路排出气体的第2排出口(22)。第2构件包含第1部分(271)与配置于较第1部分高的位置且能排出较第1部分多的液体的第2部分(272)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于液浸构件、液浸曝光装置、液体回收方法、组件制造方法、程序及存储媒体。
技术介绍
本申请基于2010年7月14日提出的美国专利技术专利暂时申请案第61/364，101号、以及2011年7月12日提出的美国专利技术专利申请案第13/181，122号主张优先权，将其内容援用于此。如同例如美国专利技术专利申请公开第2009/0046261号所掲示的内容，在微影制程使用的曝光装置中，已知经由液浸空间的液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置。
技术实现思路
液浸曝光装置中，例如若不能将液浸空间形成为所欲状态，有可能发生曝光不良。其结果，有可能产生不良组件。本专利技术的方面的目的在于提供能良好地形成液浸空间的液浸构件。又，本专利技术的方面的目的在于提供能抑制曝光不良的发生的曝光装置及液体回收方法。又，本专利技术的方面的目的在于提供能抑制不良组件的产生的组件制造方法、程序及存储媒体。根据本专利技术的第I方面，提供ー种液浸构件，配置在液浸曝光装置内，且至少部分配置于光学构件周围及通过光学构件与物体之间的液体的曝光用光的光路周围，包含第I构件，具有回收物体上的空间的液体的至少ー些的回收ロ ；回收流路，供透过回收ロ回收的液体流动；第2构件，面对回收流路并具有用以从回收流路排出液体的第I排出ロ ；以及第3构件，面对回收流路并具有用以从回收流路排出气体的第2排出ロ；第2构件包含第I部分与配置于较第I部分高的位置且能排出较第I部分多的液体的第2部分。根据本专利技术的第2方面，提供ー种液浸构件，配置在液浸曝光装置内，且至少部分配置于光学构件周围及通过光学构件与物体之间的液体的曝光用光的光路周围，包含第I构件，具有回收物体上的空间的液体的至少ー些的回收ロ ；回收流路，供透过回收ロ回收的液体流动；第2构件，具有面对回收流路的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔，透过孔的第I排出ロ排出回收流路的液体的至少一些；以及第3构件，其面对回收流路，并具有用以从回收流路排出气体的第2排出ロ；其中，第I面的至少一部分与水平面为非平行。根据本专利技术的第3方面，提供ー种液浸构件，配置在液浸曝光装置内，至少部分配置于光学构件周围及通过光学构件与物体之间的液体的曝光用光的光路周围，包含第I构件，具有回收物体上的空间的液体的至少ー些的回收ロ ；回收流路，供透过回收ロ回收的液体流动；第2构件，具有面对回收流路的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔，透过孔的第I排出ロ排出回收流路的液体的至少ー些；以及第3构件，面对回收流路，并具有用以从回收流路排出气体的第2排出ロ ；其中，第I面的至少一部分曲面。根据本专利技术的第4方面，提供一种液浸曝光装置，以穿过液体的曝光用光使基板曝光，其包含第I至第3的任ー个方面的液浸构件。根据本专利技术的第5方面，提供一种组件制造方法，其包含使用第4方面的液浸曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。 根据本专利技术的第6方面，提供一种在液浸曝光装置使用的液体回收方法，于所述液浸曝光装置中形成液浸空间使得液体充满能射出曝光用光的光学构件与基板间的曝光用光的光路，并且以穿过液体的曝光用光使基板曝光，包含透过第I构件的回收ロ回收基板上的空间的液体的至少ー些的动作；透过选自第2构件中的第I部分及配置于较第I部分高的位置且能排出较第I部分多的液体的第2部分所构成的群组中的至少一部分，排出回收流路的液体的至少ー些的动作，其中，所述第2构件具有能从供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路排出液体的第I排出ロ ；以及透过能从回收流路排出气体的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第7方面，提供一种在液浸曝光装置使用的液体回收方法，于所述液浸曝光装置中形成液浸空间使得液体充满能射出曝光用光的光学构件与基板间的曝光用光的光路，并且以穿过液体的曝光用光使基板曝光，包含透过第I构件的回收ロ回收基板上的空间的液体的至少ー些的动作；透过具有相对水平面为非平行的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔的第2构件的多个孔的第I排出口，排出供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路的液体的至少ー些的动作；以及透过配置成面对回收流路的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第8方面，提供一种在液浸曝光装置使用的液体回收方法，于所述液浸曝光装置中形成液浸空间使得液体充满能射出曝光用光的光学构件与基板间的曝光用光的光路，并且以穿过液体的曝光用光使基板曝光，包含透过第I构件的回收ロ回收基板上的空间的液体的至少ー些的动作；透过具有至少一部分为曲面的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔的第2构件的多个孔的第I排出ロ，排出供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路的液体的至少ー些的动作；以及透过配置成面对回收流路的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第9方面，提供一种组件制造方法，其包含使用第6至第8的任一个方面的液体回收方法以液体充满照射于基板的曝光用光的光路的动作；以穿过液体的曝光用光使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。根据本专利技术的第10方面，提供ー种程序，使计算机控制以穿过液体的曝光用光使基板曝光的曝光装置，包含形成液浸空间使得液体充满照射于基板的曝光用光的光路的动作；以穿过液浸空间的液体的曝光用光使基板曝光的动作；透过第I构件的回收ロ回收基板上的空间的液体的至少ー些的动作；透过由第2构件中的第I部分及配置于较第I部分高的位置且能排出较第I部分多的液体的第2部分所构成的群组中的至少一部分，排出回收流路的液体的至少ー些的动作，其中，所述第2构件具有能从供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路排出液体的第I排出ロ ；以及透过能从回收流路排出气体的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第11方面，提供ー种程序，使计算机控制以穿过液体的曝光用光使基板曝光的曝光装置，包含形成液浸空间使得液体充满照射于基板的曝光用光的光路的动作；以穿过液浸空间的液体的曝光用光使基板曝光的动作；透过第I构件的回收ロ回收基板上的空间的液体的至少ー些的动作；透过具有相对水平面为非平行的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔的第2构件的多个孔的第I排出ロ，排出供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路的液体的至少ー些的动作；以及透过配置成面对回收流路的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第12方面，提供ー种程序，使计算机控制以穿过液体的曝光用光使基板曝光的曝光装置，包含形成液浸空间使得液体充满照射于基板的曝光用光的光路的动作；以穿过液浸空间的液体的曝光用光使基板曝光的动作；透过第I构件的回收ロ回收基板上空间的液体的至少ー些的动作；透过具有至少一部分为曲面的第I面、朝向与第I面相异的方向的第2面、以及连结第I面与第2面的多个孔的第2构件的多个孔的第I排出ロ，排出供透过回收ロ回收的液体流动的回收流路的液体的至少ー些的动作；以及透过配置成面对回收流路的第3构件的第2排出ロ排出回收流路的气体的至少ー些的动作。根据本专利技术的第13方面，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤真路，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：
国别省市：