一种高真空蒸馏系统中的冷却装置制造方法及图纸

技术编号:8287863 阅读:166 留言:0更新日期:2013-02-01 02:12
本实用新型专利技术公开了一种高真空蒸馏系统中的冷却装置,是由壳体、出气口、进气口和出料口组成,壳体为双层中空壳体,中空壳体的下部设有进水口,上部设有出水口,进水口和出水口与中空壳体的中间空腔连通,壳体内的上部设有挡气板,本实用新型专利技术具有结构简单、通过骤冷回收产品并保护真空设备的特点。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属化工设备
,尤其是涉及一种高真空蒸馏系统中的冷却装置
技术介绍
目前固体产品在高真空蒸馏时采用水喷射-罗茨真空机组或旋片真空泵提供不大于IOOPa真空,进行高真空蒸馏,但在这种低压环境中,某些产品易升华,进入真空机组,冷凝附着在转子或旋片上,阻碍机器运转,甚至堵塞并损坏泵体,并有部分随气体排出,污染环境。
技术实现思路
本技术的目的在于改进已有技术的不足而提供一种结构简单、通过骤冷回收产品并保护真空设备的高真空蒸馏系统中的冷却装置。本技术的目的是在这样,一种高真空蒸馏系统中的冷却装置,是由壳体、出气口、进气口和出料口组成,其特点是壳体为双层中空壳体,中空壳体的下部设有进水口,上部设有出水口,进水口和出水口与中空壳体的中间空腔连通,壳体内的上部设有挡气板。为了进一步实现本技术的目的,可以是所述的壳体上部为圆柱形,下部为圆锥形。为了进一步实现本技术的目的,可以是在壳体的下部设有可观察壳体内部的视镜。为了进一步实现本技术的目的,可以是相邻的挡气板的与壳体内壁间的开口交错设置。本技术与已有技术相比具有以下显著特点和积极效果本技术的壳体为双层中空壳体,中空壳体的下部设有进水口,上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高真空蒸馏系统中的冷却装置,是由壳体(8)、出气口(1)、进气口(5)和出料口(4)组成,其特征是壳体(8)为双层中空壳体,中空壳体(8)的下部设有进水口(2),上部设有出水口(6),进水口(2)和出水口(6)与中空壳体(8)的中间空腔连通,壳体(1)内的上部设有挡气板(7)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:谢英王作鹏王金荣吕勇达任国旭
申请(专利权)人:山东盛华电子新材料有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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