基于铜粉回收的导入箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基于铜粉回收的导入箱，包括内部中空，且两端开口的支撑座，所述支撑座的一个开口端设置有挡圈，挡圈与支撑座的内壁之间均设置有料板，且所述料板的底端之间依次连接构成密封整体；所述支撑座的外壁上设置有与支撑座内部连通的出料装置，且出料装置与料板之间的空腔连通。该导入箱的结构简单，利用料板与底板之间构成的倾斜角度，在自重的作用下，铜粉能够自由滑落到包装袋中，通过控制板的闸道作用随时控制铜粉的输出，实现了对铜粉包装量的控制，保证了每一袋铜粉的装料体积与质量，同时减轻了操作人员的劳动强度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及导入箱，尤其是涉及基于铜粉回收的导入箱，属于化工领域。
技术介绍
碱性蚀刻液是现今化工领域常用的原料，碱性氯化铜蚀刻液I)适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻；2)蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制；3)蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻液中的铜离子的浓度、PH值、氯化按浓度以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响。掌握这些因素的影响才能控制溶液，使之始终保持恒定的最佳蚀刻状态，从而得到好的蚀刻质量。在自动控制蚀刻系统中，铜浓度是用比重控制的。在印制板的蚀刻过程中，随着铜的不断溶解，溶液的比重不断升高，当比重超过一定值时，自动补加氯化按和氨的水溶液，调整比重到合适的范围。一般比重控制在18 — 240Be’。溶液PH值的影响蚀刻液的PH值应保持在8. O — 8. 8 之间。当PH值降到8. O以下时，一方面是对金属抗蚀层不利。另一方面，蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子，溶液要出现沉淀，并在槽底形成泥状沉淀。这些泥状沉淀能在加热器上结成硬皮，可能损坏加热器，还会堵塞泵和喷嘴，给蚀刻造成困难，如果溶液PH值过高，蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
基于铜粉回收的导入箱，其特征在于：包括内部中空，且两端开口的支撑座（7），所述支撑座（7）的一个开口端设置有挡圈（1），挡圈（1）与支撑座（7）的内壁之间均设置有料板，且所述料板的底端之间依次连接构成密封整体；所述支撑座（7）的外壁上设置有与支撑座（7）内部连通的出料装置，且出料装置与料板之间的空腔连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韦建敏，张小波，赵兴文，张晓蓓，
申请(专利权)人：成都虹华环保科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：