光电池湿制程中废物体系的回收系统技术方案

本实用新型专利技术涉及光电池湿制程中废物体系的回收系统，所述回收系统系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理，其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备，以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。采用本实用新型专利技术的回收系统能够对光电池湿制程中废物体系进行处理，有利于环境保护和资源的充分利用。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及废物体系的回收系统，具体涉及光电池湿制程中废物体系的回收系统。
技术介绍
在传统太阳能电池片的蚀刻(制绒或者刻蚀)工艺中，太阳能电池硅片要经过至少一个化学品槽。太阳能电池硅片经过一个化学品槽处理后必须经过纯水清洗才能进入下一个化学品槽，以免污染下一道工艺，最终影响产品的质量。 时大量喷淋水必须得到更换，因此产生较大体积的含化学品的污水。如果将这些污水排放，不仅会加重环境保护的负担，还会造成资源的浪费。希望有一种回收系统，能够对光电池湿制程废物体系进行处理，以有利于环境保护和资源的充分利用。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，提供光电池湿制程中废物体系的回收系统，用于对光电池湿制程中废物体系进行处理，以有利于环境保护和资源的充分利用。为解决以上技术问题，本技术的一方面提供一种光电池湿制程中废物体系的回收系统，系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理，其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备，以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。进一步地，所述第一循环水箱同时与所述反渗透设备流体相通。进一步地，所述第一缓冲水箱和第一循环水箱之间通过一第二缓冲水箱流体相通，同时所述反渗透设备与所述第二缓冲水箱流体相通。进一步地，所述电渗析设备包括依次流体相通的第一电渗析单元、第二电渗析单元及第三电渗析单元。进一步地，所述第一电渗析单元和第二电渗析单元之间通过一第二循环水箱流体相通，所述第二电渗析单元和第三电渗析单元之间通过一第三循环水箱流体相通。进一步地，所述第三电渗析单元与所述蚀刻设备流体循环相通。进一步地，所述回收系统进一步包括与所述电渗析设备相配合以吸收气体的气体洗涤设备，所述气体洗涤设备包括分别和所述第一电渗析单元流体循环的第一气体净化器、和所述第二电渗析单元流体循环的第二气体净化器及和所述第三电渗析单元流体循环的第三气体净化器。进一步地，所述回收系统进一步包括与所述电渗析设备相配合以吸收气体的气体洗涤设备。进一步地，所述回收系统进一步包括与所述反渗透设备流体相通的第三缓冲水箱以储存经纯化后的清洗液。进一步地，于所述清洗设备及第一缓冲水箱之间设有过滤设备。本技术的另一方面提供一种光电池湿制程中废物体系的回收系统，所述废物体系来自用于对硅片进行蚀刻的蚀刻设备和用于对硅片进行清洗的清洗设备，所述回收系统与所述蚀刻设备流体相通的电渗析设备，以及分别与所述电渗析设备和清洗设备流体相通的反渗透设备，其中所述电渗析设备包括依次串联流体相通的两个或更多个电渗析单元，其中每一个电渗析单元与一个循环水箱流体相通并通过循环水箱与相邻的电渗析单元形成循环回路，且一端的一个电渗析单元通过与之流体相通的循环水箱与所述反渗透设备流体相通，而另一端的一个电渗析单元与所述蚀刻设备流体相通。进一步地，所述回收系统包括置于所述反渗透设备与清洗设备之间的过滤设备。 进一步地，所述回收系统还包括置于所述过滤设备和反渗透设备之间的第一缓冲水箱，优选其包括置于所述过滤设备和反渗透设备之间的彼此串联流体相通的第一缓冲水箱和第二缓冲水箱。进一步地，所述回收系统还包括与所述反渗透设备流体相通的第三缓冲水箱以储存纯化后的清洗液。进一步地，所述回收系统还包括与所述蚀刻设备和电渗析设备流体相通的气体洗涤设备，所述电渗析设备与所述气体洗涤设备相配合以吸收气体。更进一步地，所述气体洗涤设备包括分别与所述两个或更多个电渗析单元中的每一个形成循环回路的两个或更多个气体净化器。进一步地，所述清洗设备中设置有浸溃处理段或喷嘴，优选清洗设备中同时设置有浸溃处理段和喷嘴。进一步地,所述反渗透设备中有浓水室和纯水室。本技术的回收系统可实现硅片清洗液的有效回收，从而可节省成本。同时，本回收系统亦实现化学物质如酸和碱的回收，即节省成本又可防止排放导致的环境污染。总地来说，本回收系统能够对光电池湿制程中废物体系进行处理，有利于环境保护和资源的充分利用。附图说明参照附图，本技术的公开内容将变得更易理解。本领域技术人员容易理解的是附图仅仅用于举例说明本技术的技术方案，而并非意在对本技术的保护范围构成限制，其中图I是本技术光电池湿制程中废物体系的回收系统的示意图，其中使用了如下编号权利要求1.一种光电池湿制程中废物体系的回收系统，系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理，其特征在于其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备，以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。2.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于所述第一循环水箱同时与所述反渗透设备流体相通。3.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于所述第一缓冲水箱和第一循环水箱之间通过一第二缓冲水箱流体相通，同时所述反渗透设备与所述第二缓冲水箱流体相通。4.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于所述电渗析设备包括依次流体相通的第一电渗析单元、第二电渗析单元及第三电渗析单元。5.根据权利要求4所述的回收系统，其特征在于所述第一电渗析单元和第二电渗析单元之间通过一第二循环水箱流体相通，所述第二电渗析单元和第三电渗析单元之间通过一第三循环水箱流体相通。6.根据权利要求4所述的回收系统，其特征在于所述第三电渗析单元与所述蚀刻设备流体循环相通。7.根据权利要求4所述的回收系统，其特征在于其进一步包括与所述电渗析设备相配合以吸收气体的气体洗涤设备，所述气体洗涤设备包括分别和所述第一电渗析单元流体循环的第一气体净化器、和所述第二电渗析单元流体循环的第二气体净化器及和所述第三电渗析单元流体循环的第三气体净化器。8.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于其进一步包括与所述电渗析设备相配合以吸收气体的气体洗涤设备。9.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于其进一步包括与所述反渗透设备流体相通的第三缓冲水箱以储存经纯化后的清洗液。10.根据权利要求I所述的回收系统，其特征在于于所述清洗设备及第一缓冲水箱之间设有过滤设备。11.一种光电池湿制程中废物体系的回收系统，所述废物体系来自用于对硅片进行蚀刻的蚀刻设备和用于对硅片进行清洗的清洗设备，其特征在于所述回收系统包括与所述蚀刻设备流体相通的电渗析设备，以及分别与所述电渗析设备和清洗设备流体相通的反渗透设备，其中所述电渗析设备包括依次串联流体相通的两个或更多个电渗析单元，其中每一个电渗析单元与一个循环水箱流体相通并通过循环水箱与相邻的电渗析单元形成循环回路，且一端的一个电渗析单元通过与之流体相通的循环水箱与所述反渗透设备流体相通，而另一端的一个电渗析单元与所述蚀刻设备流体相通。12.根据权利要求11所述的回收系统，其特征在于其还包括置于所述反渗透设备与清洗设备之间的过滤设备。13.根据权利要求12所述的回收系统，其特征在于其还包括置于所述过滤设备和反渗透设备之间的第一缓冲水箱。14.根据权利要求12所述的回收系统，其特征在于其还包括置于所述过滤设备和反渗透设备之间的彼此串联流体相通的第一缓冲水箱和第二缓冲水箱。15.根据权利要求11至14中任一项所述的回收本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电池湿制程中废物体系的回收系统，系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理，其特征在于：其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备，以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：施道可，范琼，潘加永，
申请(专利权)人：库特勒自动化系统苏州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：