光电池湿制程中废物体系的回收系统技术方案

技术编号:8117145 阅读:201 留言:0更新日期:2012-12-22 08:06
本实用新型专利技术涉及光电池湿制程中废物体系的回收系统,所述回收系统系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理,其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备,以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。采用本实用新型专利技术的回收系统能够对光电池湿制程中废物体系进行处理,有利于环境保护和资源的充分利用。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及废物体系的回收系统,具体涉及光电池湿制程中废物体系的回收系统
技术介绍
在传统太阳能电池片的蚀刻(制绒或者刻蚀)工艺中,太阳能电池硅片要经过至少一个化学品槽。太阳能电池硅片经过一个化学品槽处理后必须经过纯水清洗才能进入下一个化学品槽,以免污染下一道工艺,最终影响产品的质量。 时大量喷淋水必须得到更换,因此产生较大体积的含化学品的污水。如果将这些污水排放,不仅会加重环境保护的负担,还会造成资源的浪费。希望有一种回收系统,能够对光电池湿制程废物体系进行处理,以有利于环境保护和资源的充分利用。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是,提供光电池湿制程中废物体系的回收系统,用于对光电池湿制程中废物体系进行处理,以有利于环境保护和资源的充分利用。为解决以上技术问题,本技术的一方面提供一种光电池湿制程中废物体系的回收系统,系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理,其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备,以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。进一步地,所述第一循环水箱同时与所述反渗透设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电池湿制程中废物体系的回收系统,系与硅片蚀刻设备及清洗设备相配合以对废物体系进行回收处理,其特征在于:其包括与所述清洗设备流体相通的第一缓冲水箱、与所述第一缓冲水箱流体相通的第一循环水箱、与所述第一循环水箱流体相通的电渗析设备,以及与所述电渗析设备流体相通的反渗透设备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:施道可范琼潘加永
申请(专利权)人:库特勒自动化系统苏州有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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