基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法，尤其涉及即使是弯曲的基板也能够以简单的结构可靠地保持的技术。对基板实施描画处理的描画装置(1)具有：保持板(11)，形成有与基板(W)的背面相向的保持面(111)；真空吸引口(12)，形成在保持面(111)上，通过真空吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上；多个伯努利吸引口(13)，形成在保持面(111)上，通过伯努利吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上。在保持面(111)上规定有配置成与该保持面(111)的中心同心的圆形区域(M1)和配置成与圆形区域同心的圆环状区域(M2)，并且在圆形区域和圆环状区域分别配置有伯努利吸引口。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及保持半导体基板、印刷基板、滤色用基板、液晶显示装置和等离子显示装置的平板显示器用玻璃基板、光盘用基板、太阳能电 池用面板等各种基板(下面，简称为“基板”)的技术。
技术介绍
在对基板实施各种处理(例如，向形成在基板上的感光材料照射光，将各种涂敷液涂敷在基板上等)的各种基板处理装置(例如，参照专利文献I)，或者用于移送基板的基板搬运装置等中需要保持基板的技术。关于该技术，例如在专利文献2、3中，公开了使用真空吸嘴来吸附保持基板的下表面侧的结构。另外，例如在专利文献4至7中公开了如下的结构使用应用了伯努利(Bernouilli)原理的伯努利嘴(通过从形成在保持面上的孔喷出气体来利用伯努利效应吸附基板的嘴)来吸附保持基板。另外，例如在专利文献8中公开了一边利用伯努利嘴来抬起基板一边利用真空吸嘴进行固定以不使基板移动的结构。另外，例如在专利文献9中公开了并用伯努利嘴和真空吸嘴来吸附保持基板的结构。专利文献I :日本特开平5-150175号公报专利文献2 日本特开2008-270626号公报专利文献3 日本特开2005-19637号公报专利文献4 日本特开2009-28863号公报专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，用于对基板实施规定处理，其特征在于，具有：保持板，形成有与基板的背面相向的保持面，一个以上的真空吸引口，形成在所述保持面上，通过真空吸引来将所述基板吸引在所述保持面上，多个伯努利吸引口，形成在所述保持面上，通过伯努利吸引来将所述基板吸引在所述保持面上；在所述保持面上规定有配置成与所述保持面的中心同心的圆形区域和配置成与所述圆形区域同心的圆环状区域，在所述圆形区域和所述圆环状区域分别配置有所述伯努利吸引口。

【技术特征摘要】
2011.07.29 JP 2011-1670051.一种基板处理装置，用于对基板实施规定处理，其特征在于， 具有: 保持板，形成有与基板的背面相向的保持面， 一个以上的真空吸引口，形成在所述保持面上，通过真空吸引来将所述基板吸引在所述保持面上， 多个伯努利吸引口，形成在所述保持面上，通过伯努利吸引来将所述基板吸引在所述保持面上； 在所述保持面上规定有配置成与所述保持面的中心同心的圆形区域和配置成与所述圆形区域同心的圆环状区域，在所述圆形区域和所述圆环状区域分别配置有所述伯努利吸引口。2.根据权利要求I记载的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有 堤部，沿着所述保持面的外缘立起设置， 多个突起部，立起设置在被所述堤部包围的所述保持面内的区域； 所述堤部的顶部和所述多个突起部的顶部位于同一平面内。3.根据权利要求I或2记载的基板处理装置，其特征在于， 在所述圆环状区域配置有多个所述伯努利吸引口， 配置在所述圆环状区域的多个伯努利吸引口沿着所述圆环状区域的周向排列。4.根据权利要求I记载的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置具有多个所述真空吸引口， 在将所述圆环状区域沿着周向分割来规定的多个弧状区域及所述圆形区域各自的区域，分别配置有所述真空吸引口和所述伯努利吸引口 ； 该基板处理装置具有 堤部，以分别包围所述多个弧状区域及所述圆形区域的方式立起设置， 多个突起部，立起设置在被所述堤部包围的所述保持面内的各区域中； 所述堤部的顶部和所述多个突起部的顶部位于同一平面内。5.根据权利要求4记载的基板处理装置，其特征在于，所述多个弧状区域各自的面积彼此相等。6.根据权利要求I记载的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有用于对所述保持面上的压力进行检测的压力传感器， 在所述保持面上一载置基板，就开始利用所述真空吸引口来进行吸引； 如果在从开始利用所述真空吸引口来进行吸引起经过了所规定的时间而所述保持面上的吸引压未变为小于规定值的压力，则开始利用所述伯努利吸引口来进行吸引。7.根据权利要求6记载的基板处理装置，其特征在于，在开始利用所述伯努利吸引口进行吸引之后所述保持面上的吸引压变为小于规定值的压力时，停止利用所述伯努利吸引口的吸引。8.根据权利要求I记载的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有 凹部，形成在所述保持板的背面侧，该凹部在深度方向上的底面处与所述伯努利吸引口相连通， 伯努利吸引单元，配置在所述凹部的内部； 所述伯努利吸引单元具有 主体部，形成有圆柱状的凹入空间， 喷嘴，向所述圆柱状的凹入空间喷出气体，从而在所述圆柱状的凹入空间形成旋流；在所述主体部与所述凹部的深度方向上的底面及所述凹部的壁面之间形成有间隙，并且所述主体部以固定的方式被支撑在所述凹部内。9.根据权利要求8记载的基板处理装置，其特征在于，所述伯努利吸引口的直径尺寸小于所述圆柱状的凹入空间的直径尺寸。10.一种基板保持装置，用于保持基板，其特征在于， 具有 保持板，形成有与基板的背面相向的保持面， 一个以上的真空吸引口，形成在所述保持面上，通过真空吸引来将所述基板吸引在所述保持面上， 多个伯努利吸引口，形成在所述保持面上，通过伯努利吸引来将所述基板吸引在所述保持面上； 在所述保持面上规定有配置成与所述保持面的中心同心的圆形区域和配置成与所述圆形区域同心的圆环状区域，在所述圆形区域和所述圆环状区域分别配置有所述伯努利吸引口。11.根据权利要求10记载的基板保持装置，其特征在于， 该基板保持装置具有 堤部，沿着所述保持面的外缘立起设置， 多个突起部，立起设置在被所述堤部包围的所述保持面内的区域； 所述堤部的顶部和所述多个突起部的顶部位于同一平面内。12.根据权利要求10或11记载的基板保持装置，其特征在于， 在所述圆环状区域配置有多个所述伯努利吸引口， 配置在所述圆环状区域的多个伯努利吸引口沿着...

【专利技术属性】
技术研发人员：水端稔，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：