【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
自适应光学系统是目前大多数光学系统提高成像分辨率的有效手段，尤其对于复杂性高、光学元器件多的大型光学系统。自适应光学系统主要包含波前探测器、波前控制器和波前校正器等3个部分。首先由波前探测器对光路中的波前畸变进行探测，并通过波前控制器计算对应波前校正器的校正量，最终通过波前校正器实施波前校正，从而达到更高 的成像质量或能量集中度等。由于波前校正器的非线性响应特性，目前主要自适应光学系统均采用多次闭环控制的方法实现对波前畸变的校正。对于波前探测而言，基于近场光强分布信息的波前检测技术较为广泛的应用于自适应光学系统中，典型代表为哈特曼-夏克型波前传感器，其能量利用率高、波前探测速度快、结构简单，使之成为很多自适应光学系统中不可缺少的探测器件。然而，在很多成像系统中，基于近场光强分布信息的波前探测器仅能够探测进入成像系统之前部分光路的像差，对于进入成像系统后的波前畸变则无法完成波前诊断，这常常使得自适应光学系统波前控制能力限制在某一较低水平上，其根本原因在于未对该成像系统全光路像差实施完整校正。2009年，黄林海等人在专利号200910...
【技术保护点】
一种基于相位差法的自适应光学系统近场波前传感器标定装置，其特征在于：包括波前校正器(1)、第一分光镜(2)、近场波前传感器(3)、波前控制器(4)、成像系统(5)和相位差波前传感器(6)；相位差波前传感器(6)与成像系统（5）共用成像光路；所述成像系统(5)包括成像器件(8)和位于成像系统焦面位置的第一成像探测器(8)；相位差波前传感器(6)包括成像器件(7)、第二分光镜(9)、第一成像探测器(8)、第二成像探测器(10)和计算机(11)；一束标定光束入射到波前校正器(1)表面，经波前校正器(1)反射后被第一分光镜(2)分为透射光束和反射光束，其中透射光束正入射于近场波前传...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：饶长辉，罗群，顾乃庭，鲍华，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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