本发明专利技术涉及一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，采用自适应光学系统中的波前校正器，利用其可以快速改变波前相位的特点，通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。波前校正器产生的光瞳滤波器位相由波前传感器进行测量，测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构做对比，根据对比结果进一步修正波前校正器，重复这一过程，实现对光瞳滤波器位相结构的闭环拟合。滤波器位相结构可以通过编程任意改变，具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，采用自适应光学系统中的波前校正器，通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变，具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。
技术介绍
分辨率是成像光学系统最重要的性能参数。1952年，Toraldo将超分辨天线的概念引入光学领域，首次提出光瞳超分辨成像的概念，他指出在系统的出瞳处加一块超分辨光瞳滤波器，可以在花费较小、对系统不做较大改动的条件下，有效地提高系统的空间分辨率。光瞳滤波器以其对光波波前改变的不同方式，主要分为振幅型滤波器.J.0pt.Soc.Am.A，1998，5 (5)]、相位型滤波器.Acta Physica Sinica，2011]，以及振幅和相位均可改变的复振幅型滤波器.光学学报，2005，25]。振幅型光瞳滤波器具有结构简单，制作方便，容错性好等优点，比较容易在光学系统中实现，然而其能量利用率较低的缺点，大大限制了这类滤波器在成像系统中的应用。相比之下，相位型和复振幅型滤波器具有能量利用率高、应用灵活等诸多优点，但制作比较困难。目前，相位型光瞳滤波器主要利用衍射光学技术来制作。首先采用标准的二元光学加工工艺制作出光瞳滤波器掩模板，然后利用光刻技术经曝光与显影两个步骤将掩模板图形转印到涂在基片表面的光刻胶上，最后利用刻蚀技术将光刻胶形成的图形转印到基底上，基底材料一般为光学玻璃。随着二元光学制造技术的发展和日趋成熟，相位型光瞳滤波器的制作变得比较简单。但是，采用二元光学技术加工的光瞳滤波器一旦制作成型，超分辨性能随即确定，如果需要尝试不同的超分辨效果，则需制作不同的光瞳滤波器，实现周期长、费用高。另外，由于光瞳滤波器不可避免的存在加工和装调误差，从而降低超分辨的效果，这时难以通过修改滤波器结构进行优化补偿。与上述研宄不同，本专利技术提出采用自适应光学系统中的波前校正器，利用其可以快速改变波前相位的特点，通过软件控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变，具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是:提供一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，采用自适应光学系统中的波前校正器，通过计算机控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。本专利技术的技术方案是:一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，采用自适应光学系统中的波前校正器，通过计算机控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。波前校正器产生的光瞳滤波器位相由波前传感器进行测量，测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构进行对比，根据对比结果进一步修正波前校正器，重复这一过程，实现对光瞳滤波器位相结构的闭环拟入口 ο优选地，所述的波前校正器和波前传感器通过中继光学系统共轭放置，并与系统入瞳共轭。优选地，所述的波前校正器是从变形反射镜、液晶波前矫正器、微加工薄膜变形镜、微机电变形镜、双压电陶瓷变形镜、液体变形镜中选择的。优选地，所述的波前传感器是从基于微透镜阵列的哈特曼波前传感器、基于微棱镜阵列的哈特曼波前传感器、曲率波前传感器、角锥波前传感器中选择的。本专利技术与现有技术相比，首次提出采用波前校正器实现位相型光瞳滤波器，通过计算机控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像。滤波器位相结构可以通过编程任意改变，具有结构灵活多样、实现简单快速、成本低廉等优点。【附图说明】图1是本专利技术的结构原理图；图2是本专利技术的一种应用示例图。【具体实施方式】下面结合【附图说明】本专利技术的优选实施例，将使本专利技术的上述及其它目的、特征和优点更加清楚。为了清楚详细的阐述本专利技术的实现过程，下面将参照附图1对本专利技术的优选实施例进行详细说明，在描述过程中省略了对于本专利技术不必要的细节和功能，以防止对本专利技术的理解造成混淆。图1为本专利技术的结构原理图。如图1所示，根据本专利技术的用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器包括信标光源1、第一中继光学系统3、波前校正器4、第二中继光学系统5、第一反射镜6，第二反射镜7、波前传感器8。波前校正器4通过第一中继光学系统3与系统入瞳2光学共轭，波前校正器4通过第二中继光学系统5与波前传感器8光学共轭。信标光源I发出的平行光经第一中继光学系统3、波前校正器4、第二中继光学系统5、第一反射镜后6，通过第二反射镜7到达波前传感器8，波前传感器8实时测量波前校正器4的相位分布并将测量结果送至计算机9。计算机9根据测得的相位分布，并与设定的滤波器位相结构进行对比，根据对比结果经计算机控制软件处理，得到波前校正器的控制电压，经高压放大器10对所述控制电压进行放大后，驱动波前校正器4产生相应变化，以闭环拟合需要的光瞳滤波器相位结构。光瞳滤波器的相位结构可以通过软件任意设定。波前校正器可从变形反射镜(Deformable reflective mirror)、液晶波前矫正器(Liquid crystal wavefront corrector)、微加工薄膜变形镜(Micromachined membranedeformable mirror)、微机电变形镜(Microelectromechanical (MEMS) deformablemirror)、双压电陶瓷变形镜(Bimorph deformable mirror)、液体变形镜(Liquiddeformable mirror)中选择。波前传感器可从基于微透镜阵列的哈特曼波前传感器(Hartmann wavefrontsensor)、基于微棱镜阵列的哈特曼波前传感器(参见中国专利技术专利ZL03126431.X)、曲率波前传感器(Curvature wavefront sensor)、角维波前传感器(Pyramid wavefrontsensor)中选择。图2是本专利技术的一种应用示例图。如图2所示，将用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器置于主动照明反射式光学成像系统中，在完成光瞳滤波器相位结构拟合后，照明光源3发出成像照明光，经第一分光镜5、成像物镜2后照明物体1，其后向散射光经成像物镜2、第一分光镜5、第一中继光学系统6、波前校正器7、第二中继光学系统8、第一反射镜9、第二分光镜10、第二反射镜12、透镜13成像到成像相机14上，实现对物体I的超分辨成像。至此已经结合优选实施例对本专利技术进行了描述。应该理解，本领域技术人员在不脱离本专利技术的精神和范围的情况下，可以进行各种其它的改变、替换和添加。因此，本专利技术的范围不局限于上述特定实施例，而应由所附权利要求所限定。【主权项】1.一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，其特征在于:采用自适应光学系统中的波前校正器，并且控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像；波前校正器产生的光瞳滤波器位相由波前传感器进行测量，测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构进行对比，根据对比结果进一步修正本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于光学超分辨成像的可编程相位型光瞳滤波器，其特征在于：采用自适应光学系统中的波前校正器，并且控制波前校正器产生所需的光瞳滤波器位相结构，并将其置于成像光学系统瞳面上实现超分辨成像；波前校正器产生的光瞳滤波器位相由波前传感器进行测量，测量结果输入计算机与设定的滤波器位相结构进行对比，根据对比结果进一步修正波前校正器，重复这一过程，实现对光瞳滤波器位相结构的闭环拟合。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵丽娜，戴云，张雨东，肖飞，赵军磊，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。