双小凹局部高分辨率成像系统技术方案

技术编号:10543516 阅读:158 留言:0更新日期:2014-10-15 18:23
本发明专利技术涉及含液晶空间光调制器(SLM)的局部高分辨光学系统,属于光学仪器技术领域。该系统包含弯月透镜,分光棱镜,液晶空间光调制器(SLM),双凸透镜以及探测器像面。系统是一种大视场局部高分辨的光学系统,采用反射式的液晶空间光调制器同时对两个不同视场的残余像差进行动态相位补偿,利用分光棱镜对光路进行90°的折转。本发明专利技术结构简单,光学元件数量少,可达到40°的扫描视场,并且在能够对视场范围内的任意两个视场同时高分辨率成像,其余视场低分辨率成像。可广泛应用于目标探测识别等领域。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及含液晶空间光调制器(SLM)的局部高分辨光学系统,属于光学仪器
。该系统包含弯月透镜,分光棱镜,液晶空间光调制器(SLM),双凸透镜以及探测器像面。系统是一种大视场局部高分辨的光学系统,采用反射式的液晶空间光调制器同时对两个不同视场的残余像差进行动态相位补偿,利用分光棱镜对光路进行90°的折转。本专利技术结构简单,光学元件数量少,可达到40°的扫描视场,并且在能够对视场范围内的任意两个视场同时高分辨率成像,其余视场低分辨率成像。可广泛应用于目标探测识别等领域。【专利说明】双小凹局部高分辨率成像系统
本专利技术涉及一种光学系统,属于探测识别光学仪器
中的一种大视场局部 高分辨率光学系统。
技术介绍
进入21世纪,在军用和民用的许多成像领域中,比如航空航天侦察、生产监视、威 胁探测和追踪、无人机远程遥控等领域中,对态势感知、目标识别的要求越来越高,而大视 场局部高分辨的成像系统可以满足足够目标细节的成像要求。目前常采用的获得大视场高分辨率的方法是减小入瞳直径或引入特殊光学元件, 但是以上方法会降低像面光照度或者增加系统的复杂程本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含液晶空间光调制器(SLM)的局部高分辨光学系统,其特征在于一个弯月透镜(1),一个分光棱镜(2),一个液晶空间光调制器(3),一个双凸透镜(4)以及像面(5)。光线传播过程为无穷远光线首先单色波长光线经过上述弯月透镜(1),进入分光棱镜(2),光线透射进入液晶空间光调制器(3),经SLM(3)反射后再次进入分光棱镜(2),经分光棱镜(2)反射,经过双凸透镜(4)成像在像面(5)上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:常军冯驰查为懿牛亚军王凡许尧谢桂娟
申请(专利权)人:北京理工大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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