【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于近场光学探测的光学传感和成像
，特别涉及一种表面等离子体纵向场的检测方法和装置。
技术介绍
现有技术中，在近场条件下物体小于衍射极限的精细结构和起伏信息与束缚在物体表面的非辐射场密切相关，一方面，处于近场区域的非辐射场内包含物体结构的细节信息；另一方面，由于该场的场强随着离开表面距离呈指数衰减，故而在远场即传统的光学检测技术中无法探测到。这一矛盾将近场光学的核心问题集中在探测束缚在物体表面的非辐射场，并将非辐射场不失真地以辐射场的形式传播出去，并加以接收的技术上。由于表面等离子体共振可以有效增强局域场的强度并且具有一系列新颖的特性，因此对于表面等离子体(Surface Plasmons Polari tons, SPPs)的近场检测是目前近场光学的一个重要问题。处于近场区域的SPPs包含了丰富的反映物体精细结构以及光学特性的信息，因此SPPs的检测技术不仅对了解表面等离子体本身的激发和传播特性，而且对SPPs传感，成像技术等都具有重大的指导意义。由于SPPs的表面波特性，其电场强度在垂直于界面方向呈现指数衰减形式，所以传统的光学显微手段无法对...
【技术保护点】
一种表面等离子体纵向场扫描近场光学显微镜装置，其特征在于，具有表面等离子体激发单元(1)、扫描控制单元(2)和检测单元(3)；所述的表面等离子体激发单元(1)包括：激发光源、分束器(7)、高数值孔径物镜(6)、镀有45nm银膜的玻片、三维扫描平台；所述的镀有45nm银膜的玻片设置在所述的三维扫描平台上，其上通过自组装吸附有拉曼分子；所述的激发光源发出的光束穿过所述的分束器(7)、高数值孔径物镜(6)照射在所述的吸附有拉曼分子的玻片上；所述的扫描控制单元(2)包括：AFM金属探针(5)、AFM控制器(4)、计算机；所述的AFM控制器(4)控制连接所述的AFM金属探针(5)；所...
【技术特征摘要】
1.一种表面等离子体纵向场扫描近场光学显微镜装置，其特征在于，具有表面等离子体激发单元(I)、扫描控制单元(2)和检测单元(3);所述的表面等离子体激发单元(I)包括:激发光源、分束器(7)、高数值孔径物镜(6)、镀有45nm银膜的玻片、三维扫描平台；所述的镀有45nm银膜的玻片设置在所述的三维扫描平台上，其上通过自组装吸附有拉曼分子；所述的激发光源发出的光束穿过所述的分束器(7)、高数值孔径物镜(6)照射在所述的吸附有拉曼分子的玻片上；所述的扫描控制单元(2)包括:AFM金属探针(5)、AFM控制器(4)、计算机；所述的AFM控制器(4)控制连接所述的AFM金属探针(5);所述的计算机控制连接所述的AFM控制器(4);所述的检测单元(3)包括:光谱分析仪(11)、光电倍增管(10)、分束器(8)、CCD和计算机；所述的分束器(8)连接所述的光谱分析仪(11)、光电倍增管(10);所述的光谱分析仪(11)连接所述的CCD ;所述的C...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁小聪，杜路平，沈军峰，朱思伟，闵长俊，方晖，
申请(专利权)人：南开大学，
类型：发明
国别省市：天津;12
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