【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学材料激光预处理领域，特别是一种通过激光能量回收重复利用来大幅度提高大口径光学元件激光预处理速度的方法及装置。
技术介绍
大口径光学元件是各类大型激光系统中不可缺少的关键元件。其光学特性是否能够满足设计要求常常是相关大型激光系统能否成功运行的关键。大口径光学元件，特别是用于强激光系统的大口径光学元件，通常对其光学吸收特性及微观缺陷要求较高，一方面要求平均吸收较小，另一方面希望吸收特性比较均匀，尽量减少局部较大吸收缺陷的存在，以免产生局部激光破坏或者局部激光光束质量的下降。 改善大口径光学元件吸收特性及微观缺陷的有效方法之一就是激光预处理技术。该技术采用合适的激光预处理工艺，对大口径光学元件在合适的激光参数下进行100%覆盖的表面预处理，从而大幅度提高该光学元件的抗激光损伤能力。这种激光预处理工艺和设备不仅是提高激光薄膜激光损伤阈值的常用手段，更是大型强激光工程系统中必备的工具。对于光学元件，特别是对用于强激光系统的微弱吸收光学元件，其激光预处理系统对所用激光器的性能要求很高，特别是系统输送到被处理样品表面的激光功率密度或能量密度必须达到合理的水平...
【技术保护点】
一种大口径光学元件激光预处理的方法，其特征在于：包括以下步骤：首先将预处理激光光束入射到被处理样品？大口径光学元件的表面，并对被处理样品表面上的处理点1进行辐照预处理，然后由被处理样品表面上的处理点1反射回来的激光光束经激光能量回收反射镜反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点2进行辐照预处理；如此类推，激光经激光能量回收反射镜后多次与被处理样品表面相互作用，在被处理样品表面上的处理点1到处理点N均进行辐照预处理。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴周令，陈坚，吴令奇，
申请(专利权)人：合肥知常光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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