用于施加激光辐射的装置和用于投射线形的光分布的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于对设置在工作区域（4）内的工件的至少部分反射的或透明的区域施加激光辐射（1）的装置，包括：激光光源，用于产生激光辐射（1）；光学装置，用于影响激光辐射（1），使其转到工作区域（4）内；其中，光学装置包括至少一个反射镜（6、7、8、9），所述发射镜能反射激光辐射（1）的在工作区域（4）内反射的部分或激光辐射（1）的穿过工作区域（4）的部分，使得激光辐射（1）的所述部分至少部分地被导回工作区域（4）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种按照权利要求I的前序部分所述的装置，用于对设置在工作区域内的工件的至少部分反射的或透明的区域施加激光辐射。本专利技术还涉及一种按照权利要求14的前序部分所述的装置用以将投射线形的光分布，一种具有这种装置的激光装置和一种用于制造这种装置的方法。
技术介绍
定义激光辐射的传播方向指的是激光辐射的中心的传播方向，当所述激光辐射没有平面波或至少部分地是扩散的时尤其如此。对激光射束、光束、分光束或光线，如果没有明确地另外说明，指的是几何光学的非理想化的光线，而是一实际的光束，如例如具有高 斯轮廓或一变形的高斯轮廓或一顶帽轮廓的激光射束，它没有无穷小的射束横截面，而具有有延展的射束横截面。透镜或圆柱形透镜的焦距指的是透镜在真空中(折射率\=1)的焦距。这里还应该说明，在介质、例如空气或玻璃中的折射率取决于发生折射的光的波长。因此以下用η (λ)表示折射率。这种相关性理论的介绍例如在Born、Max和Wolf、Emil的“Principles of Optics”,第7版、剑桥大学、剑桥1999年,第97页等中找到。用于施加激光辐射的开头所述类型的装置长期以来就是已知的。例如借本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.03.24 DE 102010012467.2;2010.03.24 DE 10201001.一种用于对设置在工作区域(4)内的工件的至少部分反射性或透明的区域施加激光辐射(I)的装置，包括 激光光源，用于产生激光辐射(I); 光学装置，用于影响激光辐射(1)，使其转入工作区域(4)内； 其特征在于，光学装置包括至少一个反射镜(6、7、8、9)，它能够反射激光辐射(I)的在工作区域(4)内反射的部分或激光辐射(I)的穿过工作区域(4)的部分，使得激光辐射(I)的所述部分至少部分地被导回工作区域(4)。2.按照权利要求I所述的装置，其特征在于，光学装置包括至少一个透镜(3、5)，特别是具有正的折光力的透镜(3、5)。3.按照权利要求2所述的装置，其特征在于，所述至少一个透镜(3、5)设置在工作区域(4)和所述至少一个反射镜(6、7、8、9)之间。4.按照权利要求I至3之一项所述的装置，其特征在于，至少一个第一反射镜(6、7)设置在工作区域(4)的远离激光光源的一侧，第一反射镜能够这样反射激光辐射(4)的穿过工作区域(4)的部分，使得激光辐射(I)的该部分至少部分地被导回工作区域(4)。5.按照权利要求4所述的装置，其特征在于，除了所述至少一个第一反射镜，所述装置在工作区域(4)的面向激光光源的一侧包括至少一个第二反射镜(8、9)，所述第二反射镜能够反射激光辐射(I)的由第一反射镜(6、7)反射的并至少部分地穿过工作区域(4)的部分的一部分，使得激光辐射(4)的该一部分至少部分地被导回工作区域(4)。6.按照权利要求I至3之一项所述的装置，其特征在于，所述反射镜(8、9)只设置在工作区域(4)的面向激光光源的一侧，所述反射镜(8、9)能够反射激光辐射(I)的在工作区域(4)内反射的部分，使得激光辐射(I)的该部分至少部分地被导回工作区域(4)。7.按照权利要求I至6之一项所述的装置，其特征在于，光学装置在工作区域(4)的一侧或每侧包括多于一个反射镜(6、7、8、9 )。8.按照权利要求7所述的装置，其特征在于，多个设置在工作区域(4)的同一侧的反射镜(6、7、8、9)是相互倾斜的、特别是成90°的角度。9.按照权利要求I至8之一项所述的装置，其特征在于，所述至少一个反射镜(6、7、8、9)是弯曲的、例如具有抛物线形的或椭圆形的横截面。10.按照权利要求I至9之一项所述的装置，其特征在于，所述至少一个反射镜(6、7、8、9)具有外部和/或内部的反射表面。11.按照权利要求I至10之一项所述的装置，其特征在于，该装置包括至少一个偏振选择的分束器(21)，由该分束器能将激光辐射(Id)反射到工作区域(4)中。12.按照权利要求11所述的装置，其特征在于，该装置包括至少一个偏振旋转器(22)，所述偏振旋转器能够使穿过分束器(21)之前和/或以后的激光辐射(l、le)的偏振方向旋转，特别是旋转90°。13.按照权利要求I至12之一项所述的装置，其特征在于，光学装置包括至少一个透镜阵列结构(12、13、14、15)，所述透镜阵列结构这样设置在装置中，使得激光辐射(I)的穿过工作区域(4)的部分在转回工作区域(4)中之前能穿过所述至少一个透镜阵列结构(12、13、14、15)，通过所述至少一个透镜阵列结构(12、13、14、15)能够减少或防止激光辐射(I)的再次被导回工作区域(4)中的部分的焦点区域的瑞利长度减小。14.一种用于使线形的光分布(C)从第一平面向第二平面内的投射的装置，其中光分布(C)的光具有波长λ ,包括 至少部分透明的第一基质(12a)，第一基质(12a)在第一基质(12a)的相互对置的表面上具有圆柱形透镜(18)的第一阵列(16)和...

【专利技术属性】
技术研发人员：V·利索特申克，A·米哈伊洛夫，N·约雷明，Y·科罗图史金，
申请(专利权)人：LIMO专利管理有限及两合公司，
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