二硼化钛靶子制造技术

本发明专利技术涉及一种二硼化钛靶子，所述靶子包括一种或多种金属的片断，所述金属选自由以下物质组成的群组：铁、镍、钴以及铬；并且所述靶子还包括碳。根据本发明专利技术，TiB2粒子的平均粒度介于1μm到20μm之间，碳含量介于重量比为0.1％到5％的范围内，并且Fe、Ni、Co及/或Cr的总含量介于500μg/g到3000μg/g的范围内。碳以自由形态分布在TiB2粒子的粒子边界，使得各个碳颗粒之间的平均距离小于20μm。孔隙率为体积比小于5％。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于物理气相沉积的二硼化钛靶子，所述靶子包括一种或多种金属的片段，所述金属选自由以下物质组成的群组铁、镍、钴以及铬；并且所述靶子还包括碳。
技术介绍
PVD (物理气相沉积)法是涂布方法，其中涂层的产生方法如下物理方式、从靶子蒸发出涂层形成粒子、蒸汽浓缩以及在待涂布的衬底上形成涂层。与CVD (化学气相沉积)法相比，PVD法的涂布温度较低并且处理成本一般也较低，鉴于这一事实，PVD法也越来越多地被用来生产机器切割工具或焊接部件上的硬质材料涂层。 在各种PVD法中，更确切来说是通过阴极溅射法达成了实务方面的特定意义，其中，通过离子轰击使靶子原子化并且转换为气相，或者通过ARC-PVD法来将其原子化并且转换为气相，其中由蒸汽源提供的原子和离子通过弧载(arc load)形式的放电过程转换成气相。本文件的靶子始终是待蒸发的材料的来源，并且接着会被直接或经由阴极托台安装到涂层单元中，这具体取决于PVD法的性质。对于ARC-PVD法，具体来说，通过在靶子的背面向靶子提供冷却板来改善温度分布的做法十分常见，此板与靶子形状配合地进行接触，同时具有有效的热导率；或者此板借助于合适的结本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·欧苏利文，
申请(专利权)人：攀时欧洲公司，
类型：
国别省市：