一种光电材料的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光电材料的制备方法，具体涉及光电材料领域。它的制备方法为：(1)首先将选好的衬底材料蓝宝石、石英晶体和硅片等清洗干净、烘干备用；(2)先将清洗好的衬底固定在真空室中的衬底托盘上，保持良好的面接触以便热传导均匀,然后关闭真空室,先打开电源，再打开机械泵和低真空阀门预抽真空室内气体得到底真空；(3)开始使用分子泵工作，抽吸使其可达到系统的基础真空8×104Pa；(4)使得真空室内的氧气压强达到预定的氧分压值，再引入氩气；(5)当压强达到设定值之后即可开始溅射，最后进行溅射制备薄膜。它的薄膜质量高，性能优越，能够制造出质量高的激光器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是光电材料领域，具体涉及ー种ZnO薄膜光电材料的制备方法。
技术介绍
不同的制备方法制备的ZnO薄膜其结构和发光特性有着很大的不同。ZnO薄膜常用的制备方法有物理和化学两大类，物理方法主要有溅射法、脉冲激光烧蚀法和蒸发法等；化学方法主要有化学汽相淀积法(CVD)和喷吐高温分解法等。但是这些方法生长的ZnO薄膜通常为多晶结构，缺陷较多，必须再通过高温退火改善薄膜的结构，使薄膜具有好的发光特性。若药制造出质量高的单晶材料，所用设备和衬底材料昂贵，成本太高；而传统的这些方法制备的ZnO用来制造激光器，也具有一定的缺陷。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本专利技术目的是在于提供，它的薄膜质量高，性能优越，能够制造出质量高的激光器。为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现它的制备方法为(1)首先将选好的衬底材料蓝宝石、石英晶体和硅片等清洗干净、烘干备用；(2)先将清洗好的衬底固定在真空室中的衬底托盘上，保持良好的面接触以便热传导均匀，然后关闭真空室，先打开电源，再打开机械泵和低真空阀门预抽真空室内气体得到底真空；(3)开始使用分子泵工作，抽吸使其可达到系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电材料的制备方法，其特征在于，它的制备方法为：(1)首先将选好的衬底材料蓝宝石、石英晶体和硅片等清洗干净、烘干备用；(2)先将清洗好的衬底固定在真空室中的衬底托盘上，保持良好的面接触以便热传导均匀,然后关闭真空室,先打开电源，再打开机械泵和低真空阀门预抽真空室内气体得到底真空；(3)开始使用分子泵工作，抽吸使其可达到系统的基础真空8×104Pa；(4)？使得真空室内的氧气压强达到预定的氧分压值，再引入氩气；(5)当压强达到设定值之后即可开始溅射，最后进行溅射制备薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭荔辉，
申请(专利权)人：昆山铭佳利电子制品有限公司，
类型：发明
国别省市：