基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种基板处理装置。本发明专利技术的基板处理装置，仅在必须使用基板托架的工序中利用基板托架，因此，提高了基板处理工艺的效率。此外，由于同时处理多个基板，所以能够提高基板处理工艺的生产率。此外，能够最大限度地活用用于冷却基板的冷却部的空间。此外，在基板和基板托架的分离过程中，能够防止因基板托架的贯通孔和基板支撑销未对齐而产生的基板及/或基板托架破损的现象。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板处理装置。更具体而言，涉及一种仅在必须使用基板托架的工序中使用基板托架，从而能够提高基板处理工艺效率的基板处理装置。
技术介绍
用于制造太阳能电池或液晶显示器的装置，大体上有蒸镀装置和热处理装置。蒸镀装置是用于形成构成太阳能电池或液晶显示器的半导体层的装置，包括如LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition :低压化学气相淀积)或 PECVD (PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition :等离子增强化学气相沉积)的化学气相蒸镀装置，以及如溅射器(sputtering)的物理蒸镀装置。此外，热处理装置用于在蒸镀工序之后为了结晶化、相变等进行的热处理步骤。 关于蒸镀装置和热处理装置的具体例子，在为IXD的情况下，代表性的蒸镀装置，有将薄膜晶体管(thin film transistor TFT)的相当于活性物质的非晶娃蒸镀到玻璃基板上的硅蒸镀装置，代表性的热处理装置有将蒸镀到玻璃基板上的非晶硅结晶化为多晶硅的硅晶化装置。一般来说，在这种蒸镀工序和热处理工序中，均要求把基板加热到规定温本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：康浩荣，宋钟镐，
申请(专利权)人：泰拉半导体株式会社，
类型：
国别省市：