LED磊晶结构制造技术

技术编号:8162746 阅读:280 留言:0更新日期:2013-01-07 20:19
本发明专利技术提供一种LED磊晶结构,包括一个基板、一个缓冲层以及一个磊晶层。所述缓冲层成长在所述基板的顶面,所述磊晶层成长在所述缓冲层的顶面。所述磊晶层包括一个第一N型磊晶层以及一个第二N型磊晶层,所述第一、二N型磊晶层之间形成一个阻挡层,所述阻挡层具有图型化沟槽设置,使所述第一、二N型磊晶层通过所述沟槽接触连接。所述第二N型磊晶层上依序成长一个发光层、一个P型磊晶层以及一个导电层。本发明专利技术并提供所述LED磊晶结构的制程。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种LED嘉晶结构,尤其涉及一种具有较佳出光效率的LED嘉晶结构。
技术介绍
LED产业是近几年最受瞩目的产业之一,发展至今,LED产品已具有节能、省电、高效率、反应时间快、寿命周期时间长、且不含汞、具有环保效益等优点。然而由于LED的结构中电极是设置在左右两侧,因此电流由P电极流向N电极前会在N型磊晶层处汇集。电流的汇集是会造成电流拥挤效应,即在电流拥挤处温度就愈来愈高,此高温将影响LED的使用寿命以及发光效率。目前改善电流拥挤效应的方式, 为延长P电极以及N电极的长度,以减缓电流拥挤在某一区域,通过延展电极的长度增加电流由P电极流向N电极的路径,以避免单一路径过度拥挤的效应产生。虽然延长电极可以降低电流拥挤的现象,但是延长的电极也缩减了 LED结构的发光面积,尤其是以蚀刻制程在出光面上的电极制作,減少了很多的发光面积。所以如何使电流分布均匀,又能增加发光面积,是目前LED产业努力的课题。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种能增加发光面积的LED磊晶结构。ー种LED磊晶结构,包括ー个基板、一个缓冲层以及ー个磊晶层。所述缓冲层成长在所述基板的顶面,所述磊晶层成长在所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LED磊晶结构,包括一个基板、一个缓冲层以及一个磊晶层,所述缓冲层成长在所述基板的顶面,所述磊晶层成长在所述缓冲层的顶面,其特征在于:所述磊晶层包括一个第一N型磊晶层以及一个第二N型磊晶层,所述第一、二N型磊晶层之间形成一个阻挡层,所述阻挡层具有图型化沟槽设置,使所述第一、二N型磊晶层通过所述沟槽接触连接,所述第二N型磊晶层上依序成长一个发光层、一个P型磊晶层以及一个导电层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林雅雯黄世晟凃博闵黄嘉宏杨顺贵
申请(专利权)人:展晶科技深圳有限公司荣创能源科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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