气体喷洒头制造技术

本实用新型专利技术是一种气体喷洒头，包括一喷洒头主体，其特征在于：喷洒头主体具有气体作用表面与位于气体作用表面上的多个进气孔，其中各进气孔包括一第一进气道与开设于第一进气道周围的至少一第二进气道，且第一进气道的进气面积与第二进气道的进气面积的比例在1∶1.5～1∶2.5之间。在进气孔的进气方向上，第一进气道的长度比第二进气道的长度多0.5mm～1.5mm。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是有关于一种气体喷洒头，且特别是有关于一种可以喷洒两种以上气体，且能达到均匀混合效果的气体喷洒头。
技术介绍
随着镀膜制程的发展，在化学气相沈积的反应过程中，如何将气体均匀地喷洒到腔室中便成为重要的问题。对此，气体分布模块(gas distribution module),特别是气体喷洒头(gas showerhead)扮演了重要的角色。针对气体分布模块或气体喷洒头的设计与结构，已经有数种专利提出。美国专利US 7138336B2与美国专利US 7641939B2采用喷洒头进气、腔室侧边抽气的方式控制气体 进出。美国专利US 6921437揭露一种可预先混合先驱气体的气体分布模块，但不适用于先驱气体不可预先混合的制程。美国专利US 6478872揭露一种将气体输送至腔室的方法，以及用于输送气体的喷洒头。然而该设计的构造复杂，且制造成本昂贵。
技术实现思路
本技术提供一种气体喷洒头，可以喷洒两种以上气体，且达到均匀混合的效果O本技术提出一种气体喷洒头，包括一喷洒头主体，其特征在于喷洒头主体具有气体作用表面与位于气体作用表面上的多个进气孔，其中各进气孔包括第一进气道与开设于第一进气道周围的至少一第二进气道，且第一进气道的进气面积与第二进气道的进气面积的比例在I : 1.5 I : 2.5之间。在进气孔的进气方向上，第一进气道的长度比第二进气道的长度多O. 5mm I. 5mm。在本技术的一实施例中，上述的第一进气道的进气面积例如在I. 8mm2 2. Imm2 之间。在本技术的一实施例中，上述的第二进气道的进气面积例如在3. 6mm2 4. 2mm2 之间。在本技术的一实施例中，该至少一第二进气道为一环状进气道，且该环状进气道环绕该第一进气道。在本技术的一实施例中，该至少一第二进气道为多个第二进气道，围绕该第一进气道。在本技术的一实施例中，上述的第二进气道的进气方向例如与第一进气道的进气方向平行。在本技术的一实施例中，上述的第二进气道的进气方向与第一进气道的进气方向例如成一夹角。在本技术的一实施例中，上述的进气孔还包括锥形开口，与第一进气道以及第二进气道相连通。在本技术的一实施例中，上述的第一进气道与喷洒头主体例如为一体成型。在本技术的一实施例中，上述的第一进气道例如是利用螺接或紧密配合的方式连接于喷洒头主体上。在本技术的一实施例中，气体喷洒头还包括位于气体作用表面的中心位置的中央排气口。在本技术的一实施例中，上述的中央排气口例如是由多个排气孔所构成。在本技术的一实施例中，上述的中央排气口的排气面积与进气孔的总进气面积的比例例如为O. 03 O. 04。在本技术的一实施例中，上述的中央排气口的排气面积与进气孔的总进气面积的比例例如小于O. 03。 在本技术的一实施例中，上述的喷洒头主体还包括至少一环状排气口，环状排气口例如是以中央排气口为中心，呈同心圆状配置。在本技术的一实施例中，上述的环状排气口由多个排气孔所构成。本技术的有益效果基于上述，本技术的气体喷洒头由于其第一进气道与第二进气道具有优化的进气面积比例，在喷洒气体时，能使其均匀地混合。附图说明图IA是依照本技术第一实施例所绘示的气体喷洒头的立体示意图。图IB是依照本技术第一实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。图IC是图IB的气体喷洒头的进气孔局部放大图。图ID是沿着图IC的BB线的剖面图。图2A是依照本技术第二实施例所绘示的进气孔的正视图。图2B是沿着图2A的C-C联机的剖面图。图3A是依照本技术第三实施例所绘示的一种进气孔的剖面图。图3B是依照本技术第三实施例所绘示的另一种进气孔的剖面图。图4是依照本技术第四实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。图5是依照本技术第五实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。主要元件符号说明100,400,500 :气体喷洒头102、402、502 :喷洒头主体104,404,504 :气体作用表面106,200,300,406,506 :进气孔106a、200a、300a :第一进气道106b,200b,300b :第二进气道300c:锥形开口408、508 :中央排气口408a、510a :排气孔510:环状排气口具体实施方式为让本技术的上述特征能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。图IA是依照本技术第一实施例所绘示的气体喷洒头的立体示意图。图IB是依照本技术第一实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。图IC是图IB的进气孔的局部放大图。图ID是沿着图IC的BB线所绘示的剖面图。请一并参照图IA与图1B，第一实施例的气体喷洒头100包括喷洒头主体102。喷洒头主体102具有气体作用表面104与位于气体作用表面104上的多个进气孔106。请参照图1C，各进气孔106包括第一进气道106a与环绕开设于第一进气道106a周围的环状第二进气道106b。在本实施例中，第一进气道106a的进气面积与第二进气道 106b的进气面积的比例在I : 1.5 I : 2. 5之间。在进气孔的进气方向上，第一进气道的长度比第二进气道的长度多O. 5mm I. 5mm。第一进气道106a的进气面积例如可在I. 8mm2 2. Imm2之间，而第二进气道106b的面积例如可在3. 6mm2 4. 2mm2之间。请参照图1D，在第一实施例中，第一进气道106a的进气方向与第二进气道106b的进气方向互相平行。图2A是依照本技术第二实施例所绘示的进气孔正视图。图2B是沿着图2A的C-C联机所绘示的剖面图。请一并参照图2A与图2B。在第二实施例中，进气孔200包括第一进气道200a与环绕第一进气道200a开设的六个第二进气道200b，然而，本技术并不以此为限，还可依照实际尺寸设计更少或更多个第二进气道。另外，在图2B中，第二进气道200b的进气方向与第一进气道200a的进气方向成一夹角Θ。图3A与图3B分别是依照本技术第三实施例绘示的两种进气孔的剖面图。请先参照图3A，进气孔300具有第一进气道300a、开设于第一进气道300a周围的第二进气道300b，以及锥形开口 300c。锥形开口 300c与第一进气道300a与第二进气道300b相连通。然后请参照图3B，本图与图3A相似，不同者在于，第一进气道300a的进气方向与第二进气道300b的进气方向成一夹角Θ。在此需指出，进气道300b的进气面积是如图3A与图3B所示的A。图4是依照本技术第四实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。请参照图4。在第四实施例中，气体喷洒头400具有喷洒头主体402。喷洒头主体402包括气体作用表面404以及位于其上的多个进气孔406。进气孔406例如与第一实施例的进气孔106相同。在第四实施例中，气体喷洒头400还包括位于气体作用表面404的中心位置的中央排气口408。中央排气口 408包括多个排气孔408a。在本实施例中，中央排气口 408的排气面积与进气孔406的总进气面积的比例为O. 03 O. 04。图5是依照本技术第五实施例所绘示的气体喷洒头的正视图。请参照图5。在第五实施例的气体喷洒头500中，喷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体喷洒头，包括一喷洒头主体，其特征在于：该喷洒头主体具有一气体作用表面与位于该气体作用表面上的多个进气孔，其中各该进气孔包括一第一进气道与开设于该第一进气道周围的至少一第二进气道，且该第一进气道的进气面积与该至少一第二进气道的进气面积的比例在1∶1.5～1∶2.5之间，在该进气孔的进气方向上，该第一进气道的长度比该第二进气道的长度多0.5mm～1.5mm。

【技术特征摘要】
2011.12.29 TW 1002249351.一种气体喷洒头，包括一喷洒头主体，其特征在于 该喷洒头主体具有一气体作用表面与位于该气体作用表面上的多个进气孔，其中各该进气孔包括一第一进气道与开设于该第一进气道周围的至少一第二进气道，且该第一进气道的进气面积与该至少一第二进气道的进气面积的比例在I : 1.5 I : 2. 5之间， 在该进气孔的进气方向上，该第一进气道的长度比该第二进气道的长度多O. 5mm I. 5mm。2.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于该第一进气道的进气面积在I.8mm2 2. Imm2 之间。3.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于该至少一第二进气道的进气面积在3.6mm2 4. 2mm2 之间。4.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于该至少一第二进气道为一环状进气道，且该环状进气道环绕该第一进气道。5.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于该至少一第二进气道为多个第二进气道，围绕该第一进气道。6.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于该至少一第二进气道的进气方向与该第一进气道的进气方向平行。7.如权利要求I...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智勇，陈建志，王庆钧，简荣祯，蔡陈德，林龚樑，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：实用新型
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