气体喷洒头制造技术

一种气体喷洒头，至少包括一喷洒头主体，其特征在于：喷洒头主体具有一气体作用表面及多个进气孔，进气孔是沿气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称分布，且进气孔总个数在980个～1050个之间。部份进气孔的位置被多个观察孔取代，且该些观察孔呈直线排列。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是有关于ー种气体喷洒头，且特别是有关于ー种具有对称分布的进气孔，应用于LED的有机金属化学气相沉积(MOCVD)外延的气体喷洒头。
技术介绍
随着镀膜エ艺的发展，在化学气相沉积的反应过程中，如何将气体均匀地喷洒到腔室中便成为重要的问题。对此，气体分布模块(gas distribution module),特别是气体喷洒头(gas showerhead)扮演了重要的角色。针对气体分布模块或气体喷洒头的设计与结构，已经有数件专利提出。美国专利US 7138336 B2与美国专利US 7641939 B2采用喷洒头进气、腔室侧边抽气的方式控制气体进出。美国专利US 6921437公开ー种可预先混合先驱气体的气体分布模块，但不适用于先 驱气体不可预先混合的エ艺。美国专利US 6478872公开ー种将气体输送至腔室的方法，以及用于输送气体的喷洒头。然而该设计的构造复杂，且制造成本昂贵。
技术实现思路
本技术的目的在于提供ー种气体喷洒头，具有加工简单，且能形成均匀气体分布的优点。为实现上述目的，本技术提供的气体喷洒头，至少包括一喷洒头主体，其中，该喷洒头主体具有ー气体作用表面及多数个进气孔，该些进气孔是沿该气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称分布，且该些进气孔总个数在980个 1050个之间，其中，部份该些进气孔的位置被多个观察孔取代，且该些观察孔呈直线排列。所述的气体喷洒头,其中各该进气孔的进气面积在Ilmm2 12mm2之间。所述的气体喷洒头，其中该些进气孔的间距在IOmm 16mm之间。所述的气体喷洒头，其中该些进气孔的总进气面积占该气体作用表面的面积的3%~ 10% 之间。所述的气体喷洒头，其中该些观察孔的间距在20mm 22mm之间。所述的气体喷洒头，其中观察孔的孔径在7. 5mm 8. 5mm之间。所述的气体喷洒头，其中各该进气孔包括一第一进气道，以供应一第一气体；ー锥形开孔，位在该气体作用表面并连接该第一进气道；以及至少ー第二进气道，与该锥形开孔相连通，以供应一第二气体。所述的气体喷洒头，其中该至少一第二进气道环设在该第一进气道的周围。所述的气体喷洒头，其中该第二进气道的中心轴与该第一进气道的中心轴平行。所述的气体喷洒头，其中该第二进气道的中心轴与该第一进气道的中心轴成ー夹角。所述的气体喷洒头，其中该第一进气道与该喷洒头主体为一体成型或者是该第一进气道通过螺接或焊接方式连接于该喷洒头主体上。所述的气体喷洒头，还包括位于该气体作用表面的中心位置的一中央排气ロ。所述的气体喷洒头，其中该中央排气ロ由多数个排气孔所构成。所述的气体喷洒头，其中该中央排气ロ的抽气端向该喷洒头主体内凹。所述的气体喷洒头，其中该中央排气ロ的排气方向与该些进气孔的进气方向相互平行。所述的气体喷洒头，其中该中央排气ロ的排气面积与该些进气孔的总进气面积的比率小于O. 03。所述的气体喷洒头，其中该喷洒头主体还包括至少ー环状排气ロ，该环状排气ロ以该中央排气ロ为中心呈对称配置。 所述的气体喷洒头，其中该环状排气ロ包括由多数个排气孔所构成。所述的气体喷洒头，其中该环状排气ロ的抽气端向该喷洒头主体内凹。所述的气体喷洒头，其中该环状排气ロ的排气方向与该些进气孔的进气方向相互平行。综上所述，本技术的气体喷洒头具有沿气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称排列的进气孔，由此配置，本技术的气体喷洒头能在エ艺腔室中生成均匀度良好的气体氛围。这种呈45度角对称排列的进气孔结构还具有加工简单、制造成本低廉的优点。本技术还以观察孔取代部份进气孔，因此得以在エ艺期间观察腔室内的情形。本技术的进气孔还可以具有两个以上的进气道，可视情况均匀混合两种以上的气体。另夕卜，本技术的气体喷洒头还可包括中央排气ロ与环状排气ロ，能使气体分布更均匀，也可在エ艺反应的同时抽去反应的副产物，提升エ艺良率。附图说明图I是依照本技术第一实施例所绘的气体喷洒头的立体视图。图2A是图I的气体喷洒头的正视图。 图2B是沿图2A的A-A线的剖面图。图2C是图2B的局部放大图。图2D是本技术另ー实施例的气体喷洒头的进气孔剖面图。图3A是依照本技术第二实施例所绘的气体喷洒头的正视图。图3B是第二实施例的气体喷洒头应用于气体分布装置的剖面图。图4A是依照本技术第三实施例所绘的气体喷洒头的正视图。图4B是第三实施例的气体喷洒头应用于气体分布装置的剖面图。附图中主要组件符号说明100,200,400气体喷洒头；101、201、401第一气体供应孔；102、202、402喷洒头主体；103、203、403第二气体供应孔；104、204、404气体作用表面；106、206、406进气孔；106a第一进气道；106b锥形开孔；106c第二进气道;208、408中央排气ロ ；208a、410a排气孔；208b抽气端；300、500气体分布装置；302、502腔室;304、504承载台;306、506基板；410环状排气ロ ；al、a2中心轴；G1第一气体；G2第二气体。具体实施方式本技术提出一种气体喷洒头，至少包括一喷洒头主体，其特征在于喷洒头主体具有气体作用表面及多个进气孔，进气孔总个数在980个 1050个之间，进气孔是沿气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称分布，其中，部份进气孔的位置被多个观察孔取代，且所述观察孔呈直线排列。在本技术的一实施例中，上述各进气孔的进气面积例如在Ilmm2 12mm2之间。在本技术的一实施例中，上述进气孔的间距例如在IOmm 16mm之间。在本技术的一实施例中，上述进气孔的总进气面积例如占气体作用表面的面积的3% 10%之间。在本技术的一实施例中，上述观察孔的间距例如在20mm 22mm之间。 在本技术的一实施例中，上述观察孔的孔径例如在7. 5mm 8. 5mm之间。在本技术的一实施例中，上述各进气孔包括第一进气道、锥形开孔以及至少一第二进气道。其中第一进气道用以供应第一气体。锥形开孔位在气体作用表面并连接第ー进气道。第二进气道与锥形开孔相连通，用以供应第二气体。在本技术的一实施例中，上述至少ー第二进气道是环设在第一进气道的周围。在本技术的一实施例中，上述第二进气道的中心轴与第一进气道的中心轴平行。在本技术的一实施例中，上述第二进气道的中心轴与第一进气道的中心轴成ー夹角。在本技术的一实施例中，上述第一进气道与喷洒头主体为一体成型，或者是第一进气道利用螺接、焊接或其它紧密加工的方式连接于喷洒头主体上。在本技术的一实施例中，气体喷洒头亦可包括一位于气体作用表面的中心位置的中央排气ロ。在本技术的一实施例中，上述中央排气ロ是由多个排气孔所构成。在本技术的一实施例中，上述中央排气ロ的抽气端向喷洒头主体内凹。在本技术的一实施例中，上述中央排气ロ的排气方向与进气孔的进气方向相互平行。在本技术的一实施例中，上述中央排气ロ的排气面积与进气孔的总进气面积的比率小于O. 03。在本技术的一实施例中，上述喷洒头主体还包括至少ー环状排气ロ，环状排气ロ是以中央排气ロ为中心呈对称方式配置。在本技术的一实施例中，上述环状排气ロ包括由多数个排气孔所构成。在本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体喷洒头，至少包括一喷洒头主体，其特征在于：该喷洒头主体具有一气体作用表面及多数个进气孔，该些进气孔是沿该气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称分布，且该些进气孔总个数在980个～1050个之间，其中，部份该些进气孔的位置被多个观察孔取代，且该些观察孔呈直线排列。

【技术特征摘要】
2011.12.29 TW 1002249371.一种气体喷洒头，至少包括一喷洒头主体，其特征在于 该喷洒头主体具有一气体作用表面及多数个进气孔，该些进气孔是沿该气体作用表面上的两垂直方向呈45度角对称分布，且该些进气孔总个数在980个 1050个之间，其中，部份该些进气孔的位置被多个观察孔取代，且该些观察孔呈直线排列。2.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中各该进气孔的进气面积在I Imm2 12mm2 之间。3.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中该些进气孔的间距在IOmm 16mm之间。4.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中该些进气孔的总进气面积占该气体作用表面的面积的3% 10%之间。5.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中该些观察孔的间距在20mm 22mm之间。6.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中观察孔的孔径在7.5mm 8. 5mm之间。7.如权利要求I所述的气体喷洒头，其特征在于，其中各该进气孔包括 一供应一第一气体的第一进气道； 一锥形开孔，位在该气体作用表面并连接该第一进气道；以及 至少一供应一第二气体的第二进气道，与该锥形开孔相连通。8.如权利要求7所述的气体喷洒头，其特征在于，其中该至少一第二进气道环设在该第一进气道的周围。9.如权利要求7所述的气体喷洒头，其特征在于，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建志，王庆钧，黄智勇，简荣祯，蔡陈德，林龚樑，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：实用新型
国别省市：